系統(tǒng)由真空腔室（外延室、進樣室）、樣品傳遞機構、樣品架、旋轉靶臺、真空排氣、真空測量、電器控制、配氣、計算機控制等各部分組成。1、★★外延室：極限真空優(yōu)于：5.0x10-8pa真空漏率小于2.0x10-8pa.l/s

本設備可以在不破壞真空或是保護氣氛的情況下進行樣品的反轉熔煉，可以同時制備多個樣品（7個以下），用于新型合金材料的制備、提純及混合應用，也可以用于熔煉高熔點金屬/合金，電弧法制備大塊非晶材料。本設備采用雙層水冷結構，配備水冷循環(huán)機（加去離子水）使設備可以快速冷卻，適用于高校、科研院所及企業(yè)進行真空冶金新材料的科研與小批量制備。

主要應用于鐵基、鎳基、鈷基合金及其它精密合金、高溫合金、磁性材料的熔煉?！　崿F真空熔煉、氣氛熔煉、真空澆鑄、精密鑄造、離心鑄造、下引鑄造、定向凝固、快速冷卻、精煉提純等工藝