其他產(chǎn)品/服務(wù)產(chǎn)品及廠家
jomesa sem-mounts1 pu = 16 sem-mounts(order no. sem60x60)jomesa電鏡載物片1盒=16片(訂貨號(hào)sem60x60)
更新時(shí)間:2025-12-26
密理博汽車清潔度檢測(cè)尼龍濾膜這是具有5.0微米孔徑（5微米過濾器）一47毫米親水尼龍網(wǎng)過濾器。5微米的過濾器來在100一包。
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milliporepvdf膜 0.22um 47mm millipore圓片濾膜gvwp04700
更新時(shí)間:2025-12-26
牌millipore孔徑100張/盒產(chǎn)地愛爾蘭直徑47mm顏色白色包裝100張/盒商標(biāo)名mf-millipore操作溫度75°c厚度
更新時(shí)間:2025-12-26
millipore親水性白色光面混合纖維素酯濾膜 smwp04700mf-millipore 表面濾膜，混合纖維素酯，親水，5 µm，47 mm，白色，光面商標(biāo)名: mf-millipore濾膜材質(zhì): 混合纖維素酯折射率:1.495產(chǎn)品品牌：密理博millipore產(chǎn)品型號(hào)：millipore smwp04700
更新時(shí)間:2025-12-26
amicon® ultra-15 離心過濾裝置一般描述amicon® ultra 15 ml離心裝置與ultracel® 100,000 dalton分子量截止濾波器提供快速超濾，以及可靠的大分子保留。例如，1 mg/ml初始濃度下的igg (156 kda)保留率為>90%。
更新時(shí)間:2025-12-26
否支持加工定制否是否進(jìn)口否設(shè)備名稱slhv033ns型號(hào)slhv033ns有效過濾面積4.5㎡化學(xué)親水性聚偏氟乙烯（pvdf）工藝體積≤100 ml
更新時(shí)間:2025-12-26
millipore濾膜hnwp04700 孔徑0.45μm 直徑47mm millipore濾膜hnwp04700 100/盒millipore濾膜hnwp04700尼龍膜chu菌過濾，生物分析，溶劑過濾水溶液澄清，顆粒去除和分析
更新時(shí)間:2025-12-26
atlas ci4000氙燈老化試驗(yàn)機(jī)用于對(duì)汽車材料、塑料、油墨、油漆與涂層、包裝、光化材料、顏料、染料、穩(wěn)定劑、添加劑、工業(yè)及地表紡織品的老化測(cè)試和評(píng)價(jià)。符合標(biāo)準(zhǔn)：1、aatcctm16-1998紡織品耐光色牢度2、aatcctm16-2004紡織品耐光色牢度3、aatcctm169紡織品的耐氣候性：氙燈照射
更新時(shí)間:2025-12-26
atlas ci4000氙燈老化試驗(yàn)機(jī)用于對(duì)汽車材料、塑料、油墨、油漆與涂層、包裝、光化材料、顏料、染料、穩(wěn)定劑、添加劑、工業(yè)及地表紡織品的老化測(cè)試和評(píng)價(jià)。符合標(biāo)準(zhǔn)：1、aatcctm16-1998紡織品耐光色牢度2、aatcctm16-2004紡織品耐光色牢度3、aatcctm169紡織品的耐氣候性：氙燈照射
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艾德克斯 it-m3812系列 回饋式直流電子負(fù)載it-m3800系列回饋式直流電子負(fù)載既能模擬各種負(fù)載特性，又能將電能無污染的回饋電網(wǎng)，不但為用戶節(jié)省了用電和散熱成本，同時(shí)也符合節(jié)能環(huán)保的需求。具備高精度的輸出和量測(cè)，并且針對(duì)測(cè)試做了多項(xiàng)安全設(shè)計(jì)，適合用于5g通信及數(shù)據(jù)中心、工業(yè)元器件、老化測(cè)試、光伏儲(chǔ)能、功率優(yōu)化器等多個(gè)測(cè)試域。
更新時(shí)間:2025-12-26
it8206-350-30 回饋式交/直流電子負(fù)載it8200系列采用高功率密度設(shè)計(jì)，在2u的體積內(nèi)功率可達(dá)6kva，在3u的體積內(nèi)功率可達(dá)15kva，通過主從并機(jī)，可輕松擴(kuò)展功率至960k
更新時(shí)間:2025-12-26
it8204-350-20u-ate 回饋式交/直流電子負(fù)載it8200系列是一款回饋式的可編程交/直流電子負(fù)載，高效的回饋能力可以將電能無污染的回饋電網(wǎng)，節(jié)省用電和散熱成本的同時(shí)也符合節(jié)能環(huán)
更新時(shí)間:2025-12-26
靈活的模組搭配it8700p+系列采用可抽換模組式設(shè)計(jì)，用戶可根據(jù)需要自由選配不同的模組，并且可以和it8700p系列的模組混合使用。而且每個(gè)負(fù)載模組和主控模組單元之中都具有高性能微處理芯片。它們之間采用平行架構(gòu)，因此具有高測(cè)試速度。負(fù)載模組之間由系統(tǒng)同步控制，也可以同步測(cè)試具有多路輸出的電源。
更新時(shí)間:2025-12-26
應(yīng)用域能源,電子,綜合 it8723p+ 高速多通道直流電子負(fù)載it8700p+系列高速多通道直流電子負(fù)載是it8700p系列在速度和精度上的升版，模組支持主從并機(jī)，擴(kuò)展功率，
更新時(shí)間:2025-12-26
it-m3131e 高功率密度可編程直流電源it-m3140系列高功率密度可編程直流電源是一款集高穩(wěn)定輸出、高速動(dòng)態(tài)響應(yīng)（<1ms）、9種保護(hù)功能以及l(fā)ist編程模式于一體的產(chǎn)品。在1/2
更新時(shí)間:2025-12-26
t-n6952/it-n6953 可編程直流電源it-n6900系列直流電源有60v和150v，800w及1500w的輸出。全系列采用黑色面板和大屏幕操控，低紋波、低噪聲，可提供穩(wěn)定純凈的直流電能，兩段電流量程，高達(dá)1ua的電流分辨率，具有cc、cv優(yōu)先權(quán)設(shè)置，新增foldback保護(hù)，輕松適配dc-dc、半導(dǎo)體激光器、汽車電子、通信電子、電機(jī)、光伏組件等各類待測(cè)物
更新時(shí)間:2025-12-26
產(chǎn)地類別進(jìn)口應(yīng)用域能源,電子,電氣it8513cg+ 高性能可編程直流電子負(fù)載it8500g+ 高性能可編程直流電子負(fù)載兼具桌面型和系統(tǒng)集成雙重使用需求，為移動(dòng)電源、工業(yè)電源模塊、功率電子器件及快充適配器等研發(fā)和老化測(cè)試而設(shè)計(jì)研發(fā)。
更新時(shí)間:2025-12-26
光刻膠的主要技術(shù)參數(shù)1. 靈敏度（sensitivity） 靈敏度是衡量光刻膠曝光速度的指標(biāo)。光刻膠的靈敏度越高，所需的曝光劑量越小。單位：毫焦/平方厘米或mj/cm2。2．分
更新時(shí)間:2025-12-26
4. 粘滯性/黏度 （viscosity） 衡量光刻膠流動(dòng)特性的參數(shù)。黏度通常可以使用光刻膠中聚合物的固體含量來控制。同一種光刻膠根據(jù)濃度不同可以有不同的黏度，而不同的黏度決定了該膠的不同的涂膠厚度。5. 抗蝕性（anti-etching） 光刻膠必須保持它的粘附性，在后續(xù)的刻蝕工序中保護(hù)襯底表面。耐熱穩(wěn)定性、抗刻蝕能力和抗離子轟擊能力
更新時(shí)間:2025-12-26
產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：去膠快速干凈對(duì)樣片無損傷操作簡(jiǎn)單安全設(shè)計(jì)緊湊美觀產(chǎn)品性價(jià)比高
更新時(shí)間:2025-12-26
納米壓印標(biāo)準(zhǔn)模板很多用戶需要用到光柵或點(diǎn)陣這些周期性的結(jié)構(gòu)。有時(shí)用戶不需要研究微納米加工工藝，這樣如果能花費(fèi)低廉的價(jià)格買到這些成品將十分方便，只要接著從事后續(xù)的工作就可以了；有的用戶自已擁有微納米加工設(shè)備及經(jīng)驗(yàn)
更新時(shí)間:2025-12-26
光學(xué)高溫計(jì)-mikro系列 用于微小和小物體（0.1毫米）高溫段非接觸性溫度測(cè)量，測(cè)溫范圍700-3500℃kro pv11應(yīng)用在工業(yè)化研究和生產(chǎn)，大學(xué)和研究機(jī)構(gòu)對(duì)燈絲、小型金屬、陶瓷試件進(jìn)行溫度測(cè)量或用于吸收光譜測(cè)量?jī)x等
更新時(shí)間:2025-12-26
特點(diǎn)：1.非接觸：可測(cè)帶電、旋轉(zhuǎn)、腐蝕性的物體2.測(cè)溫范圍廣：-30~3500℃（分段）3.形式多樣，適用于不同場(chǎng)合：便攜式、在線式；帶瞄準(zhǔn)器或光導(dǎo)鏡頭
更新時(shí)間:2025-12-26
特點(diǎn)：• 用于增強(qiáng)光刻膠和襯底的黏附性• 用于紫外光刻膠、電子束光刻膠、特殊功能用光刻膠等• 采用旋涂的方式進(jìn)行涂覆，操作簡(jiǎn)單$r
更新時(shí)間:2025-12-26
特點(diǎn)：• 耐酸堿保護(hù)膠• 不含光敏物質(zhì)，無需黃光室• 在40% koh或50% hf酸中可長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定• 通過雙層工藝可實(shí)現(xiàn)正性(ar-p 3250) 或負(fù)性(ar-n 4400-05/10)光刻工藝
更新時(shí)間:2025-12-26
德國(guó)allresist 電子束光刻膠（電子束抗蝕劑）e-beam resist 電子束正膠：pmma 膠，pmma/ma 聚合物， liga 用膠等。 電子束負(fù)膠：高分辨率電子束負(fù)膠，化學(xué)放大膠（高靈敏度電子束膠）等
更新時(shí)間:2025-12-26
特點(diǎn)：• 用于消除電子束曝光、sem成像、fib等工藝中的荷電效應(yīng)• 通過旋涂的方式涂膠，操作簡(jiǎn)單• 涂膠厚度：40nm @ 400
更新時(shí)間:2025-12-26
特點(diǎn)：• 用于三維電子束曝光、混合曝光等• 感光波段：e-beam、deep uv(248 nm)• 紫外曝光波段： 負(fù)膠：248nm~265nm & 290nm~330nm• 化學(xué)放大膠，高靈敏度，低對(duì)比度(< 1)• 良好的耐干法刻蝕能力
更新時(shí)間:2025-12-26
成分含量99品名紫外光刻膠價(jià)格透明特點(diǎn)具有高深寬比，光刻后可以達(dá)到非常好的陡直度，基本垂 直于襯底表面。品質(zhì)保障質(zhì)量過硬服務(wù)業(yè)靠譜功能耐高溫，紫外負(fù)性剝離光刻膠產(chǎn)品等優(yōu)純gr響應(yīng)速度快工藝精湛公司保障實(shí)力雄厚
更新時(shí)間:2025-12-26
microchem pmma溶液950 pmma a4500ml/bottle microchem pmma溶液950 pmma a4500ml/bottle
更新時(shí)間:2025-12-26
su-8規(guī)格（常年現(xiàn)貨供應(yīng)）型號(hào)gm1010gm1020gm1030gm1040gm1050gm1060gm1070gm1075
更新時(shí)間:2025-12-26
hsqxr-1541-006eb85nm~180nm6nm佳分辨率負(fù)膠，抗刻蝕z5200.05-110-50nm高分辨率電子束正膠,抗刻蝕
更新時(shí)間:2025-12-26
負(fù)性pi（polyimide）ltc9000 系列l(wèi)tc 9305作為介電層或緩沖層光刻負(fù)膠，低溫固化；用于銅襯底工藝4-504um此polyimide需要用顯影液htd-2和漂洗液
更新時(shí)間:2025-12-26
nmd-3 2.38%tmah5lr/pc正、負(fù)膠顯影液，適用于薄膠nmd-w 2.38%tmah5lr/pc正、負(fù)膠顯影液，適用于大于5um的厚膠
更新時(shí)間:2025-12-26
膜厚 0.5-100μm； 高對(duì)比度，適用于≥5:1 高深寬比圖形； 高曝光靈敏度（80-250mj/cm2）； 良好工藝兼容性； 平坦化性能優(yōu)異
更新時(shí)間:2025-12-26
ip100 系列 i 線膠主要應(yīng)用于無線設(shè)備、光電子芯片、mems 等域，作為微米、亞微米光刻圖形轉(zhuǎn)移掩膜保護(hù)層。
更新時(shí)間:2025-12-26
barc 涂布：參考反射率曲線，ebr 清邊； barc 烘：170±20℃/60s； 光刻膠涂布、烘、曝光、顯影； barc 刻蝕：氧等離子灰化； 金屬刻蝕：根據(jù)工藝； 剝離：氧氧等離子灰化
更新時(shí)間:2025-12-26
eb200 系列正性電子束光刻膠主要應(yīng)用于射頻芯片、光電子芯片、掩膜制作等域，用于亞微米光刻工藝中圖形掩膜層制作，eb200 系列產(chǎn)品具有高分辨率、高感度、抗刻蝕等優(yōu)點(diǎn)，產(chǎn)品技術(shù)、原材料已實(shí)現(xiàn)自主可控
更新時(shí)間:2025-12-26
金屬剝離膠膜厚 0.4-1.6μm； 內(nèi)切深度控制； 良好的附著力； 良好工藝兼容性； 平坦化性能優(yōu)異。
更新時(shí)間:2025-12-26
金屬剝離膠膜厚 0.2-1.0μm； 內(nèi)切深度控制； 良好的附著力； 良好工藝兼容性； 平坦化性能優(yōu)異
更新時(shí)間:2025-12-26
bn301系列紫外負(fù)型光刻膠是一類采用寬譜紫外線曝光的負(fù)性光刻膠，主要用于半導(dǎo)體分立器件及其它微型器件的制作?！”井a(chǎn)品粘度可以在20-60mpa.s范圍內(nèi)調(diào)整， 覆蓋光刻膠膜厚范圍2.0-3.0um, 在多種基片上均有良好的粘附性,抗?jié)穹ǜg性能良好
更新時(shí)間:2025-12-26
最新產(chǎn)品
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