光學(xué)平臺(tái)產(chǎn)品及廠家

ErgoLAB人機(jī)環(huán)境同步云平臺(tái)
津發(fā)公司自豪地給大家介紹ergolab人機(jī)環(huán)境同步平臺(tái)。人機(jī)環(huán)境同步平臺(tái)是由津發(fā)公司安全獨(dú)立自主開(kāi)發(fā)的系統(tǒng)，是一個(gè)專(zhuān)業(yè)用于收集、分析和演示人因工程、安全人機(jī)工程研究中人機(jī)環(huán)境數(shù)據(jù)采集且操作簡(jiǎn)便的多元數(shù)據(jù)同步分析平臺(tái)。該系統(tǒng)與許多人因工程學(xué)、
更新時(shí)間:2025-12-24
解決方案PsyLAB心理測(cè)試云平臺(tái)
psylab心理測(cè)試云平臺(tái)一、系統(tǒng)簡(jiǎn)介psylab心理測(cè)試云平臺(tái)是北京津發(fā)科技股份有限公司基于“人-機(jī)-環(huán)境”和“人-信息-物理”系統(tǒng)理論，自主創(chuàng)新與配置的主觀量化評(píng)價(jià)與測(cè)試系統(tǒng)。系統(tǒng)可用于對(duì)被試進(jìn)行主觀施測(cè)，包括問(wèn)卷、量表以及行為實(shí)驗(yàn)范式
更新時(shí)間:2025-12-24
解決方案ErgoLABInteraction交互行為分析平臺(tái)
ergolab interaction交互行為分析平臺(tái)一、產(chǎn)品簡(jiǎn)介ergolab interaction交互行為分析平臺(tái)，是津發(fā)科技依據(jù)“人因工程與工效學(xué)”和“人-信息-物理系統(tǒng)”理論自主研發(fā)的、面向產(chǎn)品及原型的多模態(tài)主客觀交互行為測(cè)評(píng)與分
更新時(shí)間:2025-12-24
Vizard交互虛擬現(xiàn)實(shí)開(kāi)發(fā)平臺(tái)
vizard交互虛擬現(xiàn)實(shí)開(kāi)發(fā)平臺(tái)
更新時(shí)間:2025-12-24
解決方案PsyLAB智能人因測(cè)試云平臺(tái)
psylab智能人因測(cè)試云平臺(tái)一、系統(tǒng)簡(jiǎn)介psylab智能人因測(cè)試云平臺(tái)是北京津發(fā)科技股份有限公司基于“人-機(jī)-環(huán)境”和“人-信息-物理”系統(tǒng)理論，自主創(chuàng)新與配置的主觀量化評(píng)價(jià)與測(cè)試系統(tǒng)。系統(tǒng)可用于對(duì)被試進(jìn)行主觀施測(cè)，包括問(wèn)卷、量表以及行為
更新時(shí)間:2025-12-24
ergolab虛擬仿真教學(xué)實(shí)驗(yàn)平臺(tái)一、平臺(tái)簡(jiǎn)介ergolab虛擬仿真教學(xué)實(shí)驗(yàn)平臺(tái)由ergolab人因測(cè)試子平臺(tái)、ergolab人因數(shù)據(jù)分析子平臺(tái)、ergolab人因心理試驗(yàn)臺(tái)等部分組成。平臺(tái)融合了認(rèn)知與心理測(cè)試、生理測(cè)量等人因研究技術(shù)，能夠
更新時(shí)間:2025-12-24
解決方案PsyLAB人因測(cè)試與評(píng)估云平臺(tái)
psylab人因測(cè)試與評(píng)估云平臺(tái)一、系統(tǒng)簡(jiǎn)介psylab人因測(cè)試與評(píng)估云平臺(tái)是北京津發(fā)科技股份有限公司基于“人-機(jī)-環(huán)境”和“人-信息-物理”系統(tǒng)理論，自主創(chuàng)新與配置的主觀量化評(píng)價(jià)與測(cè)試系統(tǒng)。系統(tǒng)可用于對(duì)被試進(jìn)行主觀施測(cè)，包括問(wèn)卷、量表以及
更新時(shí)間:2025-12-24
解決方案PsyLAB心理評(píng)估云平臺(tái)系統(tǒng)
psylab心理評(píng)估云平臺(tái)系統(tǒng)一、系統(tǒng)簡(jiǎn)介psylab心理評(píng)估云平臺(tái)系統(tǒng)是北京津發(fā)科技股份有限公司基于“人-機(jī)-環(huán)境”和“人-信息-物理”系統(tǒng)理論，自主創(chuàng)新與配置的主觀量化評(píng)價(jià)與測(cè)試系統(tǒng)。系統(tǒng)可用于對(duì)被試進(jìn)行主觀施測(cè)，包括問(wèn)卷、量表以及行為
更新時(shí)間:2025-12-24
紫外單面光刻機(jī)
ure-2000 系列紫外單面光刻機(jī)此系列包含六種型號(hào)：ure-2000a,ure-2000b,ure-2000/35,ure-2000/35a,ure-2000/25,ure-2000/17
更新時(shí)間:2025-12-22
紫外雙面光刻機(jī)
ure-2000s 系列雙面光刻機(jī)，對(duì)準(zhǔn)精度：±2 mm（雙面,片厚 0.8mm），±0.8mm（單面）
更新時(shí)間:2025-12-22
英國(guó)HHV 適合手套箱集成的真空鍍膜系統(tǒng)
英國(guó)hhv auto500 gb 適合手套箱集成的真空鍍膜系統(tǒng)，是門(mén)設(shè)計(jì)用于手套箱集成使用的鍍膜設(shè)備，滿(mǎn)足氧氣或水汽敏感的材料鍍膜的應(yīng)用要求。該系統(tǒng)配了一個(gè)特殊結(jié)構(gòu)的真空腔室，可直接與市場(chǎng)上大多數(shù)手套箱集成到一起。真空腔室的門(mén)可豎直滑動(dòng)開(kāi)關(guān)，嵌入手套箱內(nèi)，并占用很少的手套箱空間；其后門(mén)是鉸鏈扇式開(kāi)關(guān)，能在不影響手套箱內(nèi)氣氛的情況下輕松維護(hù)腔室內(nèi)工藝組件。
更新時(shí)間:2025-12-22
奧地利SmartNIL紫外納米壓印
奧地利smartnil紫外納米壓印：evg7200，leds 制作，led pss納米壓印工藝，led納米透鏡陣列；微流體學(xué)；芯片實(shí)驗(yàn)室；抗反射層； 納米壓印光柵； 蓮花效應(yīng)；光子帶隙；光學(xué)及通訊：光晶體，激光器件；生物技術(shù)解決方案：醫(yī)藥分析，血液分析，細(xì)胞生長(zhǎng)。
更新時(shí)間:2025-12-22
奧地利EVG掩膜光刻機(jī)
evg610是一款非常靈活的適用于研發(fā)和小批量試產(chǎn)的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，可處理大200mm之內(nèi)的各種規(guī)格的晶片。evg610支持各種標(biāo)準(zhǔn)的光刻工藝，例如：真空、軟、硬接觸和接近曝光；也支持其他特殊的應(yīng)用，如鍵合對(duì)準(zhǔn)、納米壓印光刻、微接觸印刷等。系統(tǒng)中的工具更換非常簡(jiǎn)便快捷，每次更換都可在一分鐘之內(nèi)完成，而不需要門(mén)的工程人員和培訓(xùn)，非常適合大學(xué)、研究所的科研實(shí)驗(yàn)和小批量生產(chǎn)。
更新時(shí)間:2025-12-22
奧地利EVG鍵合機(jī)
奧地利evg鍵合機(jī)：evg510，是一款半自動(dòng)晶圓鍵合系統(tǒng)，可以處理大200mm的晶圓，非常適合于研發(fā)和小批量生產(chǎn)。evg510提供了除上料和下料外的全自動(dòng)工藝處理過(guò)程，并配備了業(yè)界公認(rèn)的優(yōu)異的加熱和壓力均勻性系統(tǒng)。evg510模塊化的鍵合腔室設(shè)計(jì)可用于150mm或200mm晶圓鍵合，并且其工藝菜單與evg其他更高系列的鍵合機(jī)相匹配，可以方便的實(shí)現(xiàn)從實(shí)驗(yàn)線到量產(chǎn)線的工藝復(fù)制。
更新時(shí)間:2025-12-22
奧地利EVG鍵合機(jī)
evg520is是一款設(shè)計(jì)用于小批量生產(chǎn)的半自動(dòng)晶圓鍵合系統(tǒng)， 大硅片允許尺寸為200mm。集evg新技術(shù)及客戶(hù)反饋基礎(chǔ)上設(shè)計(jì)的evg520is，配備了evg公司的利吸盤(pán)設(shè)計(jì)---這種吸盤(pán)可以提供對(duì)稱(chēng)的快速加熱和冷卻功能。evg520is的很多優(yōu)勢(shì)特性，如獨(dú)立的上下盤(pán)加熱和高壓鍵合工藝、高度的材料和工藝靈活性等，都幫助客戶(hù)很好的實(shí)施鍵合研究和生產(chǎn)。
更新時(shí)間:2025-12-22
英國(guó)Nanobean 電子束光刻機(jī)
英國(guó)nanobean nb5 電子束光刻機(jī),具有良好的穩(wěn)定性，平均正常運(yùn)行時(shí)間超過(guò)93%.
更新時(shí)間:2025-12-22
瑞典 Mycronic 掩膜版光刻機(jī)
瑞典 mycronic 掩膜版光刻機(jī) fps6100，用于制作高精度掩膜版，廣泛用于半導(dǎo)體，tft-lcd，微電子等行業(yè)。
更新時(shí)間:2025-12-22
瑞典 Mycronic 光刻機(jī)
主要優(yōu)勢(shì)提高分辨率 25%更佳的貼片性能 70%更快的寫(xiě)入速度20%
更新時(shí)間:2025-12-22
德Raith 電子束光刻機(jī)
系統(tǒng)中集成了高精度的激光干涉工作臺(tái)，運(yùn)動(dòng)行程為50 x 50 x 25mm，xy方向定位精度為2nm，可以實(shí)現(xiàn)精確的拼接套刻，拼接套刻精度≤50nm。
更新時(shí)間:2025-12-22
德國(guó)Raith 電子束光刻機(jī)
ebpg5150使用了155mm大小的樣品臺(tái)，采用跟ebpg5200一樣的通用光刻平臺(tái)設(shè)計(jì)，對(duì)電子束直寫(xiě)應(yīng)用進(jìn)行了優(yōu)化。它可以載入不同大小的樣品,包括多片散片以及完整的硅片。
更新時(shí)間:2025-12-22
德國(guó)Raith Voyager 新一代超高分辨率電子束光刻機(jī)
德國(guó)raith voyager 新一代超高分辨率電子束光刻機(jī),系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)8英寸樣品的高速曝光。系統(tǒng)的穩(wěn)定性是非常關(guān)鍵的指標(biāo)，可保證大面積均勻曝光。該系統(tǒng)外部采用環(huán)境屏蔽罩，即使在稍差的實(shí)驗(yàn)室環(huán)境下，仍然能確保系統(tǒng)具有非常好的熱穩(wěn)定性，提高系統(tǒng)對(duì)外界環(huán)境的容忍度。
更新時(shí)間:2025-12-22
德國(guó) Sentech 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
entech rie si591 平板電容式反應(yīng)離子刻蝕機(jī)，兼容多種氯基或氟基刻蝕工藝；小型化和高度模塊化；sentech控制軟件
更新時(shí)間:2025-12-22
德國(guó) Sentech 等離子體 ICP 干法刻蝕機(jī)
sentech si 500 電感耦合等離子體icp干法刻蝕系統(tǒng)，感應(yīng)耦合等離子刻蝕機(jī)臺(tái)，低損傷納米結(jié)構(gòu)刻蝕，高速率刻蝕，內(nèi)置icp等離子源，動(dòng)態(tài)溫控。
更新時(shí)間:2025-12-22
奧地利EVG單雙面光刻機(jī)(帶有壓印功能）
evg620 單面/雙面光刻機(jī)(帶有壓印功能），evg620 是一款非常靈活和可靠的光刻設(shè)備，可配置為半自動(dòng)也可以為全自動(dòng)形式。evg620 既可以用作雙面光刻機(jī)也可以用作 150mm 硅片的精確對(duì)準(zhǔn)設(shè)備；既可以用作研發(fā)設(shè)備，也可以用作量產(chǎn)設(shè)備。精密的契型補(bǔ)償
更新時(shí)間:2025-12-22
日本Ulvac干法等離子刻蝕裝置
ne-550z是高真空l(shuí)oad-lock式干法等離子刻蝕裝置，適用于半導(dǎo)體材料、金屬材料等的精細(xì)刻蝕
更新時(shí)間:2025-12-22
日本Ulvac返回式真空濺射裝置
返回式真空濺射裝置 cs-200z，高真空交直流濺射設(shè)備.適用于金屬、合金 、陶瓷材料的高品質(zhì)濺射成膜.
更新時(shí)間:2025-12-22
美國(guó)Neocera 脈沖激光沉積系統(tǒng)
美國(guó)neocera 脈沖激光沉積系統(tǒng)pioneer 180-2-pld,一種用途廣泛的、用于薄膜沉積以及納米結(jié)構(gòu)和納米粒子合成的方法
更新時(shí)間:2025-12-22
氮化鎵支撐片，晶片，硅片
2英寸氮化鎵自支撐晶片, 10×10.5mm²氮化鎵自支撐晶片, 非性/半性氮化鎵自支撐晶片, 4英寸氮化鎵厚膜晶片, 2英寸氮化鋁厚膜晶片, 2英寸氮化鎵厚膜晶片
更新時(shí)間:2025-12-22
法國(guó)Annealsys 高溫退火爐
法國(guó)annealsys 高溫退火爐as-one, 多用途快速熱處理設(shè)備，適用于硅，化合物半導(dǎo)體，太陽(yáng)能電池& mems.
更新時(shí)間:2025-12-22
德國(guó)MBE-Komponenten 分子束外延系統(tǒng)
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-19f,寬廣的測(cè)試范圍，可測(cè)試 0.03~0.13um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。octoplus 400 是一款通用型mbe系統(tǒng)，非常適合于iii/v族， ii/vi族，及其他復(fù)合半導(dǎo)體材料應(yīng)用。兼容2-4英寸標(biāo)準(zhǔn)晶片。豎直分割式腔體設(shè)計(jì)，可以裝配各種源爐，實(shí)現(xiàn)不同材料分子束外延生長(zhǎng)。
更新時(shí)間:2025-12-22
德國(guó) Raith 150 Two 高分辨電子束曝光系統(tǒng)
raith 150 two可實(shí)現(xiàn)亞5nm的曝光結(jié)構(gòu)，可處理8”晶元及以下樣片。環(huán)境屏蔽罩保證了系統(tǒng)的熱穩(wěn)定性，提高設(shè)備對(duì)實(shí)驗(yàn)室環(huán)境的容忍度，即使在相對(duì)糟糕的實(shí)驗(yàn)室環(huán)境下，也能保證系統(tǒng)的正常穩(wěn)定運(yùn)行。
更新時(shí)間:2025-12-22
瑞士 NanoFrazor 3D納米結(jié)構(gòu)高速直寫(xiě)機(jī)
raith 150 two可實(shí)現(xiàn)亞5nm的曝光結(jié)構(gòu)，可處理8”晶元及以下樣片。環(huán)境屏蔽罩保證了系統(tǒng)的熱穩(wěn)定性，提高設(shè)備對(duì)實(shí)驗(yàn)室環(huán)境的容忍度，即使在相對(duì)糟糕的實(shí)驗(yàn)室環(huán)境下，也能保證系統(tǒng)的正常穩(wěn)定運(yùn)行。
更新時(shí)間:2025-12-22
德國(guó)Eulitha 高分辨紫外光刻系統(tǒng)
phabler 100 紫外光刻機(jī)是一套低成本的光學(xué)曝光系統(tǒng)，但卻能獲得高分辨率的周期性結(jié)構(gòu)。同傳統(tǒng)的紫外曝光機(jī)類(lèi)似，涂覆了光刻膠的晶片以接近方式放置在掩膜版下面，被紫外光束照射。由于eulitha公司擁有突破性的phable 曝光技術(shù)，在"phable"模式下，分辨率不再受到衍射的限制，從而曝光出亞微米的線性光柵和二維光柵（六角形和正方形），且曝光結(jié)果非常均勻，質(zhì)量很好。
更新時(shí)間:2025-12-22
美國(guó) OAI 光刻機(jī)
oai 5000e型大面積掩光刻機(jī)是一種先進(jìn)的高性能，全自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)器和曝光工具，可為大型平板應(yīng)用提供超精密，頂，亞微米對(duì)準(zhǔn)和分辨率。 其靈活的設(shè)計(jì)允許在各種基材（圓形或方形）上印刷高達(dá)300mm或20“×20”。 曝光系統(tǒng)兼容近，中，或深紫外范圍的光刻膠，并具有計(jì)算機(jī)控制的led顯微鏡照明，在不太理想的觀察環(huán)境中觀察。
更新時(shí)間:2025-12-22
美國(guó) OAI 邊緣曝光系統(tǒng)
兩種型號(hào)的2000型曝光系統(tǒng)包括uv光源，強(qiáng)度控制電源和機(jī)器人襯底處理子系統(tǒng)。 uv光源提供發(fā)散半角<2.0％的可調(diào)強(qiáng)度光束。電源從200w到2,000w。強(qiáng)度控制器傳感器直接連接到光源，用于精確的強(qiáng)度監(jiān)控。機(jī)器人襯底處理系統(tǒng)是微處理器控制的，并且可以被編程以適應(yīng)各種各樣的襯底尺寸。
更新時(shí)間:2025-12-22
美國(guó) OAI 自動(dòng)化邊緣曝光系統(tǒng)
2012sm型自動(dòng)邊緣曝光系統(tǒng)為使用標(biāo)準(zhǔn)陰影掩模技術(shù)的邊緣珠去除提供了一種經(jīng)濟(jì)高效的方法。 設(shè)計(jì)用于容納8“到300mm的晶片，該工具具有自動(dòng)foup裝載。 掩模和基材切換可以快速且容易地實(shí)現(xiàn)，從而增加該生產(chǎn)工具的通用性和高產(chǎn)量。
更新時(shí)間:2025-12-22
美國(guó) OAI 型光學(xué)正面和背面光刻機(jī)系統(tǒng)
2012sm型自動(dòng)邊緣曝光系統(tǒng)為使用標(biāo)準(zhǔn)陰影掩模技術(shù)的邊緣珠去除提供了一種經(jīng)濟(jì)高效的方法。 設(shè)計(jì)用于容納8“到300mm的晶片，該工具具有自動(dòng)foup裝載。 掩模和基材切換可以快速且容易地實(shí)現(xiàn)，從而增加該生產(chǎn)工具的通用性和高產(chǎn)量。
更新時(shí)間:2025-12-22
美國(guó) OAI 實(shí)驗(yàn)室用手動(dòng)曝光機(jī)
oai 200型光刻機(jī)是一種具有成本效益的高性能掩模對(duì)準(zhǔn)器，采用經(jīng)過(guò)行業(yè)驗(yàn)證的組件，使oai成為光刻設(shè)備行業(yè)的導(dǎo)者。 200型是臺(tái)式面罩對(duì)準(zhǔn)器，需要小的潔凈室空間。它為研發(fā)，或有限規(guī)模，試點(diǎn)生產(chǎn)提供了經(jīng)濟(jì)的替代方案。利用創(chuàng)新的空氣軸承/真空吸盤(pán)調(diào)平系統(tǒng)，襯底快速平穩(wěn)地平整，用于平行光掩模對(duì)準(zhǔn)和在接觸曝光期間在晶片上的均勻接觸。該系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)一微米分辨率和對(duì)準(zhǔn)精度。
更新時(shí)間:2025-12-22
美國(guó) OAI 型UV光源
30型uv光源是高效的，可用于各種應(yīng)用。光由橢圓形反射器收集并聚焦在積分/聚光透鏡陣列上，以在曝光平面產(chǎn)生均勻的照明。這種紫外光源提供多種光束尺寸，最大24英寸平方，輸出光譜范圍從220 nm到450 nm，使用適當(dāng)?shù)臒簦òǎ］敵龉β史秶鷱?00瓦到5千瓦。所有oai uv光源都易于配備快速更換過(guò)濾器組件，使用戶(hù)能夠輕松定制輸出光譜。可選配遠(yuǎn)程排氣風(fēng)扇。
更新時(shí)間:2025-12-22
美國(guó) OAI 光功率計(jì)
the oai solar energy meter measures solar simulator irradiance in "sun" units, for example, with one sun equaling 1000 w/m2 at 25 °c at airmass 1.5 global conditions.
更新時(shí)間:2025-12-22
英國(guó) Durham 無(wú)掩膜光刻機(jī)
nanoarch p130是科研3d打印系統(tǒng)，擁有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印層厚，從而實(shí)現(xiàn)超高精度的樣件制作，非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。
更新時(shí)間:2025-12-22
美Coherent 準(zhǔn)分子激光器
美coherent excistarxs準(zhǔn)分子激光器超緊湊、輕型、高度可靠的紫外線光源
更新時(shí)間:2025-12-22
英國(guó)Nanobean 電子束光刻機(jī)
美coherent excistarxs準(zhǔn)分子激光器超緊湊、輕型、高度可靠的紫外線光源
更新時(shí)間:2025-12-22
美國(guó)Trion批量生產(chǎn)用設(shè)備去膠系統(tǒng)
jbx-8100fs 圓形電子束光刻系統(tǒng)· 最新高精密jbx-8100fs圓形電子束光刻系統(tǒng)，通過(guò)全方位的設(shè)計(jì)優(yōu)化，實(shí)現(xiàn)更簡(jiǎn)便的操作，更快的刻寫(xiě)速度，更小的占地面積和安裝空間，并且更加綠色節(jié)能。
更新時(shí)間:2025-12-22
美國(guó)Trion 具有預(yù)真空室的反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
minilock-phantom iii 具有預(yù)真空室的反應(yīng)離子刻蝕機(jī)。適用于單個(gè)基片或帶承片盤(pán)的基片(3” - 300mm尺寸)，為實(shí)驗(yàn)室和試制線生產(chǎn)環(huán)境提供最先進(jìn)的刻蝕能力。它也具有多尺寸批量處理(4x3”; 3x4”; 7x2”)。系統(tǒng)有多達(dá)七種工藝氣體可以用于刻蝕各種薄膜，如氧化硅、氮化硅、多晶硅、鋁、砷化鎵、鉻、銅、磷化銦和鈦。
更新時(shí)間:2025-12-22
美國(guó)Trion反應(yīng)離子刻蝕與沉積系統(tǒng)
oracle iii由中央真空傳輸系統(tǒng)(cvt)、真空盒升降機(jī)和最多四個(gè)工藝反應(yīng)室構(gòu)成。這些工藝反應(yīng)室與中央負(fù)載鎖對(duì)接，既能夠以生產(chǎn)模式運(yùn)行，也能夠作為單個(gè)系統(tǒng)獨(dú)立作業(yè)。 oracle iii是市場(chǎng)上最靈活的系統(tǒng)，既可以為實(shí)驗(yàn)室環(huán)境進(jìn)行配置(使用單基片裝卸)，也可以為批量生產(chǎn)進(jìn)行配置(使用真空盒升降機(jī)進(jìn)行基片傳送)。
更新時(shí)間:2025-12-22
美國(guó)Trion 離子刻蝕與沉積系統(tǒng)
titan是一套用于半導(dǎo)體生產(chǎn)的十分緊湊、全自動(dòng)化、帶預(yù)真空室的等離子系統(tǒng)。titan具有反應(yīng)離子刻蝕(rie)配置、高密度電感耦合等離子沉積(hdicp)或等離子增強(qiáng)型化學(xué)汽相沉積(pecvd)配置?？蓪?duì)單個(gè)基片或帶承片盤(pán)的基片(3”-300mm)進(jìn)行處理。它還具有多尺寸批量處理功能。價(jià)格適宜且占地面積小。
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德國(guó)UnitemP真空快速退火爐
德國(guó)unitemp真空快速退火爐rtp-150, 單晶圓，150mm，快升溫速率可達(dá)150k/s
更新時(shí)間:2025-12-22
奧地利EVG紫外納米壓印系統(tǒng)
evg的hercules nil 300 mm是一個(gè)完全集成的納米壓印系統(tǒng)，是evg的nil產(chǎn)品組合的新成員。 hercules nil基于模塊化平臺(tái)，在單個(gè)平臺(tái)上將清洗模塊，抗蝕劑涂層模塊和烘烤預(yù)處理模塊與evg的有smartnil大面積納米壓?。╪il）模塊結(jié)合在一起，用于直徑大為300 mm的晶片。
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奧地利EVG紫外納米壓印系統(tǒng)
evg720紫外納米壓印用于從印章到襯底的紫外圖形轉(zhuǎn)移。evg720自動(dòng)納米壓印系統(tǒng)允許襯底和印章的尺寸從很小的芯片到150mm直徑的圓片范圍。
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