掃描電子顯微鏡（SEM）產(chǎn)品及廠家

日立高新掃描電子顯微鏡
日立高新掃描電子顯微鏡此外，還搭載了全新的導(dǎo)航功能“sem map”，這個(gè)功能可彌補(bǔ)電子顯微鏡上難以找準(zhǔn)視野的缺點(diǎn)，實(shí)現(xiàn)直觀的視野移動(dòng)。flexsem 1000 ii，憑借全新設(shè)計(jì)的電子光學(xué)系統(tǒng)和高靈敏度檢測(cè)器，可在加速電壓20 kv下實(shí)現(xiàn)4.0 nm的分辨率。全新開發(fā)的用戶界面，具有亮度和對(duì)焦自動(dòng)調(diào)節(jié)功能，可以在短時(shí)間內(nèi)進(jìn)行各種觀察。
更新時(shí)間:2025-12-24
SU8200 日立高新場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡
日立高新場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡su8200系列日立高新場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡su8200系列（hitachi uhr fe-sem su8200 series，su8220，su8230，su8240）采
更新時(shí)間:2025-12-24
高新超高分辨率場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡SU9000
日立高新超高分辨率場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡su9000日立高新超高分辨率場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡su9000是專門為電子束敏感樣品和需300萬(wàn)倍穩(wěn)定觀察的半導(dǎo)體器件，高分辨成像所設(shè)計(jì)。紫外臭氧清洗機(jī)常用于掃描
更新時(shí)間:2025-12-24
FlexSEM 1000 I 日立高新掃描電子顯微鏡
日立高新掃描電子顯微鏡flexsem 1000 i掃描電子顯微鏡可對(duì)材料的表面進(jìn)行高倍率觀察及高精度元素分析，在納米技術(shù)、生命科學(xué)、產(chǎn)品設(shè)計(jì)研發(fā)及失效分析等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。flexsem 1000
更新時(shí)間:2025-12-24
SU9000 日立高新超高分辨率場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡
日立高新超高分辨率場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡su9000日本日立hitachi超高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡regulus系列 的詳細(xì)介紹　　沿用"su8200系列"的冷場(chǎng)發(fā)射電子槍*2　　采用電子束在fla
更新時(shí)間:2025-12-24
行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)操作SH/T 0221液化石油氣密度或相對(duì)密度測(cè)定法(壓力密度計(jì)法)
行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)操作sh/t 0221液化石油氣密度或相對(duì)密度測(cè)定法(壓力密度計(jì)法)
更新時(shí)間:2025-12-24
標(biāo)準(zhǔn)操作SH/T 0059潤(rùn)滑油燕發(fā)損失的測(cè)定諾亞克法
標(biāo)準(zhǔn)操作sh/t 0059潤(rùn)滑油燕發(fā)損失的測(cè)定諾亞克法
更新時(shí)間:2025-12-24
形貌分析－多功能電子顯微鏡（ＴＥＭ－ＳＥＭ）
電子顯微鏡（electron microscope）是利用電子與物質(zhì)作用所產(chǎn)生之訊號(hào)來監(jiān)定微區(qū)域晶體結(jié)構(gòu)，微細(xì)組織，化學(xué)成份，化學(xué)鍵結(jié)和電子分布情況的電子光學(xué)裝置。常用的有透射電子顯微鏡（ｔｅｍ）和掃描電子顯微鏡（ｓｅｍ）。與光學(xué)顯微鏡相比電子顯微鏡用電子束代替了可見光，用電磁透鏡代替了光學(xué)透鏡并使用熒光屏將肉眼不可見電子束成像。多功能電子顯微鏡將常見的ｔｅｍ、ｓｅｍ、ｓｔｅｍ、ｅｄ四種模式結(jié)合
更新時(shí)間:2025-12-24
缺陷分析－超聲波掃描顯微鏡（ＳＡＭ）
　　　聲學(xué)顯微鏡，學(xué)名是：掃描聲學(xué)顯微鏡scanning acoustic microscope，簡(jiǎn)稱sam。它是基于聲波脈沖反射和透射原理工作的，只要聲波信號(hào)在樣品表面或者內(nèi)部遇到聲波阻抗（如遇到孔隙、氣泡等），就會(huì)發(fā)生反射。 　　　sam主要用于材料淺表層結(jié)構(gòu)分析、材料力學(xué)性能的檢測(cè)、無損檢測(cè)等。
更新時(shí)間:2025-12-24
小型透射電子顯微鏡（ＴＥＭ）
透射電子顯微鏡（ｔｅｍ）和掃描電子顯微鏡（ｓｅｍ）。與光學(xué)顯微鏡相比電子顯微鏡用電子束代替了可見光，用電磁透鏡代替了光學(xué)透鏡并使用熒光屏將肉眼不可見電子束成像。
更新時(shí)間:2025-12-24
加拿大LVEM5掃描顯微鏡SEM
透射電子顯微鏡（ｔｅｍ）和掃描電子顯微鏡（ｓｅｍ）。與光學(xué)顯微鏡相比電子顯微鏡用電子束代替了可見光，用電磁透鏡代替了光學(xué)透鏡并使用熒光屏將肉眼不可見電子束成像。
更新時(shí)間:2025-12-24
TOMLOV HDMI 顯微鏡 DM401/DM401 Pro/DM402 Pro 2K/4K 高清 1200X 放大 7 寸 IPS 屏 雙 LED 光源 自動(dòng)對(duì)焦 電子維修 PCB 焊接珠寶鑒定
tomlov hdmi電源產(chǎn)品顯微鏡將傳統(tǒng)顯微鏡升級(jí)為數(shù)字可視化系統(tǒng)，讓觀察更輕松、記錄更便捷。三款產(chǎn)品以不同配置滿足從入門到專業(yè)的各類需求，是電子愛好者、收藏家和專業(yè)維修人員的實(shí)用工具。
更新時(shí)間:2025-12-24
SEM掃描電鏡，臺(tái)式掃描電子顯微鏡
sem掃描電鏡，臺(tái)式掃描電子顯微鏡在電子學(xué)研究中，掃描電鏡主要可以用來觀測(cè)及分析半導(dǎo)體、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)材料、太陽(yáng)能電池、led、元器件、pcb板及mems器件等的形態(tài)或缺陷 。
更新時(shí)間:2025-12-24
SEM掃描電鏡，臺(tái)式掃描電子顯微鏡#2023已更新
sem掃描電鏡，臺(tái)式掃描電子顯微鏡在電子學(xué)研究中，掃描電鏡主要可以用來觀測(cè)及分析半導(dǎo)體、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)材料、太陽(yáng)能電池、led、元器件、pcb板及mems器件等的形態(tài)或缺陷 。
更新時(shí)間:2025-12-24
蔡司電腦斷層掃描測(cè)量機(jī)2022動(dòng)態(tài)已更新《采購(gòu)/推薦》
蔡司電腦斷層掃描測(cè)量機(jī)-多探頭測(cè)量機(jī)設(shè)備;工業(yè)計(jì)算機(jī)斷層掃描（ct）為您提供了quanxin的洞見，讓您可以快速采集所有內(nèi)部結(jié)構(gòu)的體積。蔡司是快速ct的先驅(qū)，并且能夠在生產(chǎn)周期中對(duì)組件進(jìn)行完整的以體積為基礎(chǔ)的檢查。
更新時(shí)間:2025-12-24
飛納臺(tái)式自動(dòng)化掃描電鏡大樣品室版
的易于學(xué)習(xí)的界面可幫助您快速掌握信息，是各種應(yīng)用的理想選擇。phenom xl g3 平均成像時(shí)間僅為 40 秒，比市場(chǎng)上其他臺(tái)式電鏡的速度快 5 倍之多。系統(tǒng)可對(duì)最大 100 x 100mm 的樣品進(jìn)行分析，8nm 的分辨率為分析提供更多的細(xì)節(jié)。專利設(shè)計(jì)的放氣 / 樣品裝載系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)全世界相對(duì)較快的放氣 / 裝載速度，并獲得非常少有的比較高的樣品吞吐效率。
更新時(shí)間:2025-12-23
第七代飛納臺(tái)式掃描電鏡 Phenom Pro｜高分辨率專業(yè)版
phenom pro 是飛納（phenom）第七代高分辨率臺(tái)式掃描電鏡，采用一代 高亮度 ceb? 燈絲 與優(yōu)化的電子光學(xué)系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn) 優(yōu)于 6 nm 分辨率，最高放大 350,000×， 輕松完成納米級(jí)與亞微米級(jí)材料的微觀形貌觀察。相比上一代產(chǎn)品，分辨率提升約 20％，新增 實(shí)時(shí) bse/se 混合圖像（mix） 功能，為科研與工業(yè)檢測(cè)帶來更高效率與更精確的微觀分析體驗(yàn)。
更新時(shí)間:2025-12-23
飛納臺(tái)式掃描電鏡電鏡能譜一體機(jī)
加快材料研究的突破性進(jìn)展，您的實(shí)驗(yàn)室需要一臺(tái)具備快速準(zhǔn)確分析大量材料微觀結(jié)構(gòu)的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺(tái)式掃描電鏡能譜一體機(jī)引入了全新一代操作系統(tǒng)，通過改進(jìn)光路設(shè)計(jì)，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進(jìn)一步升，易于操作，元素分析更快速。
更新時(shí)間:2025-12-23
飛納臺(tái)式大倉(cāng)室自動(dòng)化掃描電鏡
荷蘭飛納公司隆重推出第三代飛納臺(tái)式大倉(cāng)室自動(dòng)化掃描電鏡 phenom xl g3
更新時(shí)間:2025-12-23
飛納臺(tái)式掃描電鏡 Phenom XL
全新的易于學(xué)習(xí)的界面可幫助您快速掌握新信息，是各種應(yīng)用的理想選擇。phenom xl g2 升為全面屏成像，平均成像時(shí)間僅為 40 ，比市場(chǎng)上其他臺(tái)式電鏡的速度快 5 倍之多。系統(tǒng)可對(duì)大 100 x 100mm 的樣品進(jìn)行分析，8nm 的分辨率為分析提供更多的細(xì)節(jié)。利設(shè)計(jì)的放氣/樣品裝載系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)全快的放氣/裝載速度，并獲得大的樣品吞吐效率。
更新時(shí)間:2025-12-23
飛納臺(tái)式掃描電鏡Phenom Pro
飛納掃描電鏡是一款使用高亮度 ceb6 燈絲的高分辨臺(tái)式掃描電鏡。放大倍數(shù) 350,000 倍，用于觀察納米或者亞微米樣品的微觀結(jié)構(gòu)。
更新時(shí)間:2025-12-23
飛納臺(tái)式掃描電鏡 Phenom Pro
第六代 phenom pro 臺(tái)式掃描電鏡是一款功能強(qiáng)大，輕松易用的多功能設(shè)備。長(zhǎng)壽命、高亮度 ceb6 燈絲擴(kuò)展了研究設(shè)備的功能，結(jié) 合豐富的樣品杯選件和拓展的全自動(dòng)軟件，phenom pro 可以適用于廣泛的研究域。
更新時(shí)間:2025-12-23
飛納臺(tái)式掃描電子顯微鏡標(biāo)準(zhǔn)版Pure
第六代 phenom pure 是一款使用高亮度 ceb6 燈絲的高分辨臺(tái)式掃描電鏡。放大倍數(shù) 175,000 倍，用于觀察納米或者亞微米樣品的微觀結(jié)構(gòu)?；诟吡炼?ceb6 燈絲和全新的聚焦系統(tǒng)，phenom pure 的分辨率輕松達(dá)到 10 nm，同時(shí)具有全自動(dòng)操作、15 快速抽真空、不噴金觀看絕緣體、2-3 年更換燈絲等特點(diǎn)。
更新時(shí)間:2025-12-23
飛納臺(tái)式掃描電子顯微鏡業(yè)版Pro
第六代 phenom pro 臺(tái)式掃描電鏡是一款功能強(qiáng)大，輕松易用的多功能設(shè)備。長(zhǎng)壽命、高亮度 ceb6 燈絲擴(kuò)展了研究設(shè)備的功能，結(jié) 合豐富的樣品杯選件和拓展的全自動(dòng)軟件，phenom pro 可以適用于廣泛的研究域。
更新時(shí)間:2025-12-23
飛納臺(tái)式掃描電鏡 Phenom ProX
加快材料研究的突破性進(jìn)展，您的實(shí)驗(yàn)室需要一臺(tái)具備快速準(zhǔn)確分析大量材料微觀結(jié)構(gòu)的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺(tái)式掃描電鏡能譜一體機(jī)引入了全新一代操作系統(tǒng)，通過改進(jìn)光路設(shè)計(jì)，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進(jìn)一步升，易于操作，元素分析更快速。
更新時(shí)間:2025-12-23
飛納臺(tái)式掃描電子顯微鏡 Phenom ProX
加快材料研究的突破性進(jìn)展，您的實(shí)驗(yàn)室需要一臺(tái)具備快速準(zhǔn)確分析大量材料微觀結(jié)構(gòu)的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺(tái)式掃描電鏡能譜一體機(jī)引入了全新一代操作系統(tǒng)，通過改進(jìn)光路設(shè)計(jì)，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進(jìn)一步升，易于操作，元素分析更快速。
更新時(shí)間:2025-12-23
飛納臺(tái)式掃描電鏡
加快材料研究的突破性進(jìn)展，您的實(shí)驗(yàn)室需要一臺(tái)具備快速準(zhǔn)確分析大量材料微觀結(jié)構(gòu)的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺(tái)式掃描電鏡能譜一體機(jī)引入了全新一代操作系統(tǒng)，通過改進(jìn)光路設(shè)計(jì)，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進(jìn)一步升，易于操作，元素分析更快速。
更新時(shí)間:2025-12-23
Phenom 飛納煙草紙張領(lǐng)域掃描電子顯微鏡
phenom 飛納煙草紙張領(lǐng)域掃描電子顯微鏡
更新時(shí)間:2025-12-23
飛納臺(tái)式掃描電鏡 | 工業(yè) 4.0 自動(dòng)化與高通量質(zhì)控解決方案
的易于學(xué)習(xí)的界面可幫助您快速掌握信息，是各種應(yīng)用的理想選擇。phenom xl g3 平均成像時(shí)間僅為 40 秒，比市場(chǎng)上其他臺(tái)式電鏡的速度快 5 倍之多。系統(tǒng)可對(duì)最大 100 x 100mm 的樣品進(jìn)行分析，8nm 的分辨率為分析提供更多的細(xì)節(jié)。專利設(shè)計(jì)的放氣 / 樣品裝載系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)全世界相對(duì)較快的放氣 / 裝載速度，并獲得非常少有的比較高的樣品吞吐效率。
更新時(shí)間:2025-12-23
Phenom MAPS 大面積圖像拼接
phenom maps 作為一款多模態(tài)多維度地圖式圖像自動(dòng)采集及拼接軟件，可自動(dòng)獲取大型圖像數(shù)據(jù)集，并直觀地組合和關(guān)聯(lián)多種成像、分析模式，從而提供多尺度和多模態(tài)的表征數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2025-12-23
ChemiSEM 彩色成像技術(shù)
飛納電鏡推出的 chemisem 技術(shù)，將 sem 形貌觀察與 eds 成分分析相結(jié)合，讓工作流程更加流暢，簡(jiǎn)化了許多材料（包括金屬、陶瓷、電池、涂層、水泥和軟物質(zhì)材料等）的分析流程：通過彩色元素分布圖與 sem 圖像的實(shí)時(shí)疊加，在成像同時(shí)提供高質(zhì)量的成分定性定量信息。
更新時(shí)間:2025-12-23
飛納電鏡全景拼圖【新品】
全新界面，一鍵掃描更便捷掃描“形狀”自定義大樣品全景觀測(cè)高清圖像無錯(cuò)位
更新時(shí)間:2025-12-23
適用金屬和礦物研究—飛納電鏡物相分析軟件
適用金屬和礦物研究—飛納電鏡chemiphase物相分析軟件更容易，更全面，更準(zhǔn)確的物相分析
更新時(shí)間:2025-12-23
飛納臺(tái)式掃描電鏡能譜一體機(jī) Phenom ProX G7
飛納電鏡能譜一體機(jī) phenom prox 是終的集成化成像分析系統(tǒng)。借助該系統(tǒng)，既可觀察樣品的表面形貌，又可分析其元素組分。
更新時(shí)間:2025-12-23
Phenom臺(tái)式掃描電子顯微鏡標(biāo)準(zhǔn)版Pure
放大倍數(shù)：20000x；分辨率：優(yōu)于30nm；燈絲：1500小時(shí)ceb6燈絲抽真空時(shí)間：10；樣品移動(dòng)方式：自動(dòng)馬達(dá)樣品臺(tái)樣品定位方式：光學(xué)和低倍電子雙重導(dǎo)航樣品導(dǎo)電性要求：無需噴金，直接觀測(cè)絕緣體
更新時(shí)間:2025-12-23
FEI臺(tái)式掃描電鏡Phenom飛納 標(biāo)準(zhǔn)版
第六代 phenom pure 是一款使用高亮度 ceb6 燈絲的高分辨臺(tái)式掃描電鏡。放大倍數(shù) 175,000 倍，用于觀察亞微米樣品的微觀結(jié)構(gòu)。pure 具有全自動(dòng)操作、15 快速抽真空、不噴金觀看絕緣體、2-3 年更換燈絲等特點(diǎn)，適用于傳統(tǒng)大電鏡待測(cè)樣品的快速篩選，也適合于光學(xué)顯微鏡的分辨率無法滿足需求的客戶。
更新時(shí)間:2025-12-23
FEI臺(tái)式掃描電鏡飛納（Phenom） 業(yè)版
第六代 phenom pro 臺(tái)式掃描電鏡是一款功能強(qiáng)大，輕松易用的多功能設(shè)備。長(zhǎng)壽命、高亮度 ceb6 燈絲擴(kuò)展了研究設(shè)備的功能，結(jié)合豐富的樣品杯選件和拓展的全自動(dòng)軟件，phenom pro 可以適用于廣泛的研究域。
更新時(shí)間:2025-12-23
飛納（Phenom）臺(tái)式掃描電鏡 能譜版
加快材料研究的突破性進(jìn)展，您的實(shí)驗(yàn)室需要一臺(tái)具備快速準(zhǔn)確分析大量材料微觀結(jié)構(gòu)的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺(tái)式掃描電鏡能譜一體機(jī)引入了全新一代操作系統(tǒng)，通過改進(jìn)光路設(shè)計(jì)，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進(jìn)一步升，易于操作，元素分析更快速。
更新時(shí)間:2025-12-23
日本電子熱場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡
日本電子熱場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡適用于納米材料、化學(xué)、新材料、半導(dǎo)體器件的觀察和分析。
更新時(shí)間:2025-12-23
日本電子掃描電子顯微鏡
日本電子掃描電子顯微鏡jcm-700強(qiáng)大的"zeromag"功能，讓您從光學(xué)顯微鏡的觀察方式，輕松的無縫接軌到掃描電鏡的影像觀察。"live analysis"則實(shí)現(xiàn)了sem影像觀察時(shí)實(shí)時(shí)的eds成份分析。
更新時(shí)間:2025-12-23
供應(yīng)蘇州日立TM4000Ⅱ掃描電鏡
日立tm4000ⅱ掃描電鏡獨(dú)特的低真空系統(tǒng)使得樣品不需任何處理即可快速進(jìn)行觀察。 tm4000ⅱ優(yōu)化提供5kv、10kv、15kv、20kv四種不同電壓下的觀察模式，每種模式下電流4檔可調(diào)，并配備4分割背散射探測(cè)器，可采集四個(gè)不同方向的圖像信息，對(duì)樣品進(jìn)行多種模式成像。具有全新的sem-map導(dǎo)航功能，同時(shí)，電鏡圖片可以報(bào)告形式導(dǎo)出。配備大型樣品倉(cāng)，可容納大樣品直徑80mm，厚度50mm。
更新時(shí)間:2025-12-23
供應(yīng)蘇州日立FlexSEM1000 II鎢燈絲掃描電鏡
flexsem1000 ii是日立新的落地式小型鎢燈絲掃描電鏡，具有體積小、操作簡(jiǎn)單、性能強(qiáng)、擴(kuò)展功能豐富等特點(diǎn)。flexsem1000 ii配備了二次電子探測(cè)器和背散射電子探測(cè)器，可以觀察樣品的形貌和成分；同時(shí)具有低真空功能，可以直接觀察不導(dǎo)電樣品和含水樣品；配合新增的sem-map光鏡導(dǎo)航和5軸樣品臺(tái)可以快速、高效的完成觀察任務(wù)。
更新時(shí)間:2025-12-23
供應(yīng)蘇州日立TM4000Ⅱ掃描電鏡
日立tm4000ⅱ掃描電鏡獨(dú)特的低真空系統(tǒng)使得樣品不需任何處理即可快速進(jìn)行觀察。 tm4000ⅱ優(yōu)化提供5kv、10kv、15kv、20kv四種不同電壓下的觀察模式，每種模式下電流4檔可調(diào)，并配備4分割背散射探測(cè)器，可采集四個(gè)不同方向的圖像信息，對(duì)樣品進(jìn)行多種模式成像。具有全新的sem-map導(dǎo)航功能，同時(shí)，電鏡圖片可以報(bào)告形式導(dǎo)出。配備大型樣品倉(cāng)，可容納大樣品直徑80mm，厚度50mm。
更新時(shí)間:2025-12-23
供應(yīng)蘇州日立FlexSEM1000 II鎢燈絲掃描電鏡
flexsem1000 ii是日立新的落地式小型鎢燈絲掃描電鏡，具有體積小、操作簡(jiǎn)單、性能強(qiáng)、擴(kuò)展功能豐富等特點(diǎn)。flexsem1000 ii配備了二次電子探測(cè)器和背散射電子探測(cè)器，可以觀察樣品的形貌和成分；同時(shí)具有低真空功能，可以直接觀察不導(dǎo)電樣品和含水樣品；配合新增的sem-map光鏡導(dǎo)航和5軸樣品臺(tái)可以快速、高效的完成觀察任務(wù)。
更新時(shí)間:2025-12-23
供應(yīng)日立SU9000新型超高分辨冷場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡
日立2011年新推出了su9000超高分辨冷場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡，達(dá)到掃描電鏡世界最高二次電子分辨率0.4nm和stem分辨率0.34nm。日立su9000采取了全新改進(jìn)的真空系統(tǒng)和電子光學(xué)系統(tǒng)，不僅分辨率性能明顯提升，而且作為一款冷場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡甚至不需要傳統(tǒng)意義上的flashing操作，可以高效率的快速獲取樣品超高分辨掃描電鏡圖像。 特點(diǎn)： 1. 新型
更新時(shí)間:2025-12-23
供應(yīng)蘇州日立S-3400N掃描電子顯微鏡
s­-3400n掃描電子顯微鏡 s-3400n具有最新開發(fā)的電子光學(xué)系統(tǒng)，強(qiáng)大的自動(dòng)化功能，操作更簡(jiǎn)易。 特點(diǎn): 1. s-3400n具有強(qiáng)大的自動(dòng)功能，包括自動(dòng)燈絲飽和、4偏壓、自動(dòng)槍對(duì)中、自動(dòng)束流設(shè)定、 自動(dòng)合軸自動(dòng)聚焦和消像散、自動(dòng)亮度對(duì)比度等。 2. 在3kv低加速電壓時(shí)
更新時(shí)間:2025-12-23
供應(yīng)蘇州日立S-3700N 多功能分析型可變壓掃描電鏡
s-3700n 多功能分析型可變壓掃描電鏡 研究超大，超重，超高樣品的分析型掃描電鏡 ● 最大可載樣品直徑達(dá)300mm ●最大觀察區(qū)域直徑達(dá)203mm ● 在觀察110mm高樣品時(shí)可進(jìn)行能譜分析 ● 樣品室設(shè)置多種接口，可安裝eds、wds、ebsd和cl等多種分析用附件 ● 5軸優(yōu)中心馬達(dá)臺(tái)可以傾
更新時(shí)間:2025-12-23
供應(yīng)蘇州日立TM4000Ⅱ掃描電鏡
日立tm4000ⅱ掃描電鏡獨(dú)特的低真空系統(tǒng)使得樣品不需任何處理即可快速進(jìn)行觀察。 tm4000ⅱ優(yōu)化提供5kv、10kv、15kv、20kv四種不同電壓下的觀察模式，每種模式下電流4檔可調(diào)，并配備4分割背散射探測(cè)器，可采集四個(gè)不同方向的圖像信息，對(duì)樣品進(jìn)行多種模式成像。具有全新的sem-map導(dǎo)航功能，同時(shí)，電鏡圖片可以報(bào)告形式導(dǎo)出。配備大型樣品倉(cāng)，可容納大樣品直徑80mm，厚度50mm。
更新時(shí)間:2025-12-23
和伍水浸超聲掃描顯微鏡半導(dǎo)體缺陷檢測(cè)儀
超聲掃描顯微鏡（sat）是一種利用超聲波為傳播媒介的無損檢測(cè)成像設(shè)備，主要利用高頻超聲波，對(duì)各類半導(dǎo)體器件、材料進(jìn)行檢測(cè)，能夠檢測(cè)出樣品內(nèi)部的氣孔、裂紋、夾雜和分層等缺陷，并以圖形的方式直觀展示。在掃描過程中，不會(huì)對(duì)樣品造成損傷，不會(huì)影響樣品性能，可有效滿足新能源、半導(dǎo)體、電力電子、熱管理材料、金剛石復(fù)合材料、碳纖維復(fù)合材料等行業(yè)需求。
更新時(shí)間:2025-12-22
日本JEOL截面樣品拋光儀
日本jeol截面樣品拋光儀ib-19530cp，采用多用途樣品臺(tái)，通過交換各種功能性樣品座實(shí)現(xiàn)了功能的多樣化。根據(jù)需要可以選擇不同的功能性樣品座，不僅能截面刻蝕，還可以進(jìn)行平面刻蝕、離子束濺射鍍膜等。
更新時(shí)間:2025-12-22

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