掃描電子顯微鏡（SEM）產(chǎn)品及廠家
sem掃描電鏡，臺式掃描電子顯微鏡在電子學研究中，掃描電鏡主要可以用來觀測及分析半導體、數(shù)據(jù)存儲材料、太陽能電池、led、元器件、pcb板及mems器件等的形態(tài)或缺陷 。
更新時間:2025-12-24
sem掃描電鏡，臺式掃描電子顯微鏡在電子學研究中，掃描電鏡主要可以用來觀測及分析半導體、數(shù)據(jù)存儲材料、太陽能電池、led、元器件、pcb板及mems器件等的形態(tài)或缺陷 。
更新時間:2025-12-24
蔡司電腦斷層掃描測量機-多探頭測量機設備;工業(yè)計算機斷層掃描（ct）為您提供了quanxin的洞見，讓您可以快速采集所有內(nèi)部結(jié)構(gòu)的體積。蔡司是快速ct的先驅(qū)，并且能夠在生產(chǎn)周期中對組件進行完整的以體積為基礎的檢查。
更新時間:2025-12-24
的易于學習的界面可幫助您快速掌握信息，是各種應用的理想選擇。phenom xl g3 平均成像時間僅為 40 秒，比市場上其他臺式電鏡的速度快 5 倍之多。系統(tǒng)可對最大 100 x 100mm 的樣品進行分析，8nm 的分辨率為分析提供更多的細節(jié)。專利設計的放氣 / 樣品裝載系統(tǒng)可以實現(xiàn)全世界相對較快的放氣 / 裝載速度，并獲得非常少有的比較高的樣品吞吐效率。
更新時間:2025-12-23
phenom pro 是飛納（phenom）第七代高分辨率臺式掃描電鏡，采用一代 高亮度 ceb? 燈絲 與優(yōu)化的電子光學系統(tǒng)，實現(xiàn) 優(yōu)于 6 nm 分辨率，最高放大 350,000×， 輕松完成納米級與亞微米級材料的微觀形貌觀察。相比上一代產(chǎn)品，分辨率提升約 20％，新增 實時 bse/se 混合圖像（mix） 功能，為科研與工業(yè)檢測帶來更高效率與更精確的微觀分析體驗。
更新時間:2025-12-23
加快材料研究的突破性進展，您的實驗室需要一臺具備快速準確分析大量材料微觀結(jié)構(gòu)的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺式掃描電鏡能譜一體機引入了全新一代操作系統(tǒng)，通過改進光路設計，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進一步升，易于操作，元素分析更快速。
更新時間:2025-12-23
全新的易于學習的界面可幫助您快速掌握新信息，是各種應用的理想選擇。phenom xl g2 升為全面屏成像，平均成像時間僅為 40 ，比市場上其他臺式電鏡的速度快 5 倍之多。系統(tǒng)可對大 100 x 100mm 的樣品進行分析，8nm 的分辨率為分析提供更多的細節(jié)。利設計的放氣/樣品裝載系統(tǒng)可以實現(xiàn)全快的放氣/裝載速度，并獲得大的樣品吞吐效率。
更新時間:2025-12-23
飛納掃描電鏡是一款使用高亮度 ceb6 燈絲的高分辨臺式掃描電鏡。放大倍數(shù) 350,000 倍，用于觀察納米或者亞微米樣品的微觀結(jié)構(gòu)。
更新時間:2025-12-23
第六代 phenom pro 臺式掃描電鏡是一款功能強大，輕松易用的多功能設備。長壽命、高亮度 ceb6 燈絲擴展了研究設備的功能，結(jié) 合豐富的樣品杯選件和拓展的全自動軟件，phenom pro 可以適用于廣泛的研究域。
更新時間:2025-12-23
第六代 phenom pure 是一款使用高亮度 ceb6 燈絲的高分辨臺式掃描電鏡。放大倍數(shù) 175,000 倍，用于觀察納米或者亞微米樣品的微觀結(jié)構(gòu)。基于高亮度 ceb6 燈絲和全新的聚焦系統(tǒng)，phenom pure 的分辨率輕松達到 10 nm，同時具有全自動操作、15 快速抽真空、不噴金觀看絕緣體、2-3 年更換燈絲等特點。
更新時間:2025-12-23
第六代 phenom pro 臺式掃描電鏡是一款功能強大，輕松易用的多功能設備。長壽命、高亮度 ceb6 燈絲擴展了研究設備的功能，結(jié) 合豐富的樣品杯選件和拓展的全自動軟件，phenom pro 可以適用于廣泛的研究域。
更新時間:2025-12-23
加快材料研究的突破性進展，您的實驗室需要一臺具備快速準確分析大量材料微觀結(jié)構(gòu)的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺式掃描電鏡能譜一體機引入了全新一代操作系統(tǒng)，通過改進光路設計，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進一步升，易于操作，元素分析更快速。
更新時間:2025-12-23
加快材料研究的突破性進展，您的實驗室需要一臺具備快速準確分析大量材料微觀結(jié)構(gòu)的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺式掃描電鏡能譜一體機引入了全新一代操作系統(tǒng)，通過改進光路設計，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進一步升，易于操作，元素分析更快速。
更新時間:2025-12-23
加快材料研究的突破性進展，您的實驗室需要一臺具備快速準確分析大量材料微觀結(jié)構(gòu)的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺式掃描電鏡能譜一體機引入了全新一代操作系統(tǒng)，通過改進光路設計，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進一步升，易于操作，元素分析更快速。
更新時間:2025-12-23
的易于學習的界面可幫助您快速掌握信息，是各種應用的理想選擇。phenom xl g3 平均成像時間僅為 40 秒，比市場上其他臺式電鏡的速度快 5 倍之多。系統(tǒng)可對最大 100 x 100mm 的樣品進行分析，8nm 的分辨率為分析提供更多的細節(jié)。專利設計的放氣 / 樣品裝載系統(tǒng)可以實現(xiàn)全世界相對較快的放氣 / 裝載速度，并獲得非常少有的比較高的樣品吞吐效率。
更新時間:2025-12-23
phenom maps 作為一款多模態(tài)多維度地圖式圖像自動采集及拼接軟件，可自動獲取大型圖像數(shù)據(jù)集，并直觀地組合和關(guān)聯(lián)多種成像、分析模式，從而提供多尺度和多模態(tài)的表征數(shù)據(jù)。
更新時間:2025-12-23
飛納電鏡推出的 chemisem 技術(shù)，將 sem 形貌觀察與 eds 成分分析相結(jié)合，讓工作流程更加流暢，簡化了許多材料（包括金屬、陶瓷、電池、涂層、水泥和軟物質(zhì)材料等）的分析流程：通過彩色元素分布圖與 sem 圖像的實時疊加，在成像同時提供高質(zhì)量的成分定性定量信息。
更新時間:2025-12-23
飛納電鏡能譜一體機 phenom prox 是終的集成化成像分析系統(tǒng)。借助該系統(tǒng)，既可觀察樣品的表面形貌，又可分析其元素組分。
更新時間:2025-12-23
放大倍數(shù)：20000x；分辨率：優(yōu)于30nm；燈絲：1500小時ceb6燈絲抽真空時間：10；樣品移動方式：自動馬達樣品臺樣品定位方式：光學和低倍電子雙重導航樣品導電性要求：無需噴金，直接觀測絕緣體
更新時間:2025-12-23
第六代 phenom pure 是一款使用高亮度 ceb6 燈絲的高分辨臺式掃描電鏡。放大倍數(shù) 175,000 倍，用于觀察亞微米樣品的微觀結(jié)構(gòu)。pure 具有全自動操作、15 快速抽真空、不噴金觀看絕緣體、2-3 年更換燈絲等特點，適用于傳統(tǒng)大電鏡待測樣品的快速篩選，也適合于光學顯微鏡的分辨率無法滿足需求的客戶。
更新時間:2025-12-23
第六代 phenom pro 臺式掃描電鏡是一款功能強大，輕松易用的多功能設備。長壽命、高亮度 ceb6 燈絲擴展了研究設備的功能，結(jié)合豐富的樣品杯選件和拓展的全自動軟件，phenom pro 可以適用于廣泛的研究域。
更新時間:2025-12-23
加快材料研究的突破性進展，您的實驗室需要一臺具備快速準確分析大量材料微觀結(jié)構(gòu)的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺式掃描電鏡能譜一體機引入了全新一代操作系統(tǒng)，通過改進光路設計，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進一步升，易于操作，元素分析更快速。
更新時間:2025-12-23
日本電子掃描電子顯微鏡jcm-700強大的"zeromag"功能，讓您從光學顯微鏡的觀察方式，輕松的無縫接軌到掃描電鏡的影像觀察。"live analysis"則實現(xiàn)了sem影像觀察時實時的eds成份分析。
更新時間:2025-12-23
日立tm4000ⅱ掃描電鏡獨特的低真空系統(tǒng)使得樣品不需任何處理即可快速進行觀察。 tm4000ⅱ優(yōu)化提供5kv、10kv、15kv、20kv四種不同電壓下的觀察模式，每種模式下電流4檔可調(diào)，并配備4分割背散射探測器，可采集四個不同方向的圖像信息，對樣品進行多種模式成像。具有全新的sem-map導航功能，同時，電鏡圖片可以報告形式導出。配備大型樣品倉，可容納大樣品直徑80mm，厚度50mm。
更新時間:2025-12-23
flexsem1000 ii是日立新的落地式小型鎢燈絲掃描電鏡，具有體積小、操作簡單、性能強、擴展功能豐富等特點。flexsem1000 ii配備了二次電子探測器和背散射電子探測器，可以觀察樣品的形貌和成分；同時具有低真空功能，可以直接觀察不導電樣品和含水樣品；配合新增的sem-map光鏡導航和5軸樣品臺可以快速、高效的完成觀察任務。
更新時間:2025-12-23
日立tm4000ⅱ掃描電鏡獨特的低真空系統(tǒng)使得樣品不需任何處理即可快速進行觀察。 tm4000ⅱ優(yōu)化提供5kv、10kv、15kv、20kv四種不同電壓下的觀察模式，每種模式下電流4檔可調(diào)，并配備4分割背散射探測器，可采集四個不同方向的圖像信息，對樣品進行多種模式成像。具有全新的sem-map導航功能，同時，電鏡圖片可以報告形式導出。配備大型樣品倉，可容納大樣品直徑80mm，厚度50mm。
更新時間:2025-12-23
flexsem1000 ii是日立新的落地式小型鎢燈絲掃描電鏡，具有體積小、操作簡單、性能強、擴展功能豐富等特點。flexsem1000 ii配備了二次電子探測器和背散射電子探測器，可以觀察樣品的形貌和成分；同時具有低真空功能，可以直接觀察不導電樣品和含水樣品；配合新增的sem-map光鏡導航和5軸樣品臺可以快速、高效的完成觀察任務。
更新時間:2025-12-23
日立2011年新推出了su9000超高分辨冷場發(fā)射掃描電鏡，達到掃描電鏡世界最高二次電子分辨率0.4nm和stem分辨率0.34nm。日立su9000采取了全新改進的真空系統(tǒng)和電子光學系統(tǒng)，不僅分辨率性能明顯提升，而且作為一款冷場發(fā)射掃描電鏡甚至不需要傳統(tǒng)意義上的flashing操作，可以高效率的快速獲取樣品超高分辨掃描電鏡圖像。 特點： 1. 新型
更新時間:2025-12-23
s-3400n掃描電子顯微鏡 s-3400n具有最新開發(fā)的電子光學系統(tǒng)，強大的自動化功能，操作更簡易。 特點: 1. s-3400n具有強大的自動功能，包括自動燈絲飽和、4偏壓、自動槍對中、自動束流設定、 自動合軸自動聚焦和消像散、自動亮度對比度等。 2. 在3kv低加速電壓時
更新時間:2025-12-23
s-3700n 多功能分析型可變壓掃描電鏡 研究超大，超重，超高樣品的分析型掃描電鏡 ● 最大可載樣品直徑達300mm ●最大觀察區(qū)域直徑達203mm ● 在觀察110mm高樣品時可進行能譜分析 ● 樣品室設置多種接口，可安裝eds、wds、ebsd和cl等多種分析用附件 ● 5軸優(yōu)中心馬達臺可以傾
更新時間:2025-12-23
日立tm4000ⅱ掃描電鏡獨特的低真空系統(tǒng)使得樣品不需任何處理即可快速進行觀察。 tm4000ⅱ優(yōu)化提供5kv、10kv、15kv、20kv四種不同電壓下的觀察模式，每種模式下電流4檔可調(diào)，并配備4分割背散射探測器，可采集四個不同方向的圖像信息，對樣品進行多種模式成像。具有全新的sem-map導航功能，同時，電鏡圖片可以報告形式導出。配備大型樣品倉，可容納大樣品直徑80mm，厚度50mm。
更新時間:2025-12-23
超聲掃描顯微鏡（sat）是一種利用超聲波為傳播媒介的無損檢測成像設備，主要利用高頻超聲波，對各類半導體器件、材料進行檢測，能夠檢測出樣品內(nèi)部的氣孔、裂紋、夾雜和分層等缺陷，并以圖形的方式直觀展示。在掃描過程中，不會對樣品造成損傷，不會影響樣品性能，可有效滿足新能源、半導體、電力電子、熱管理材料、金剛石復合材料、碳纖維復合材料等行業(yè)需求。
更新時間:2025-12-22
日本jeol截面樣品拋光儀ib-19530cp，采用多用途樣品臺，通過交換各種功能性樣品座實現(xiàn)了功能的多樣化。根據(jù)需要可以選擇不同的功能性樣品座，不僅能截面刻蝕，還可以進行平面刻蝕、離子束濺射鍍膜等。
更新時間:2025-12-22
日本jeol截面樣品制備裝置ib-19530cp，采用多用途樣品臺，通過交換各種功能性樣品座實現(xiàn)了功能的多樣化。根據(jù)需要可以選擇不同的功能性樣品座，不僅能截面刻蝕，還可以進行平面刻蝕、離子束濺射鍍膜等。
更新時間:2025-12-22
日本jeol 截面樣品拋光儀 ib-19520ccp，在加工過程中利用液氮冷卻，能減輕離子束對樣品造成的熱損傷。冷卻持續(xù)時間長、液氮消耗少的構(gòu)造設計。在裝有液氮的情況下，也能將樣品快速冷卻、恢復到室溫，并且可以拆卸。配有傳送機構(gòu)，在隔離空氣的環(huán)境下能完成從加工到觀察的全過程。
更新時間:2025-12-22
日本jeol 軟x射線分析譜儀，通過組合新開發(fā)的衍射光柵和高靈敏度ｘ射線ccd相機，實現(xiàn)了高的能量分辨率。 和eds一樣可以并行檢測，并且能以0.3ev(費米邊處al-l基準)的高能量分辨率進行分析，超過了wds的能量分辨率。
更新時間:2025-12-22
日本jeol 電子探針顯微分析儀 jxa-ihp100，可以安裝通用性強、使用方便的能譜儀x射線探測器，組合使用wds和eds，能提供無縫、舒適的分析環(huán)境。
更新時間:2025-12-22
日本jeol 聚焦離子束加工觀察系統(tǒng) jib-4000，配置了高性能的離子鏡筒(單束fib裝置)。被加速了的鎵離子束經(jīng)聚焦照射樣品后，就能對樣品表面進行sim觀察 、研磨，沉積碳和鎢等材料。還可以為tem成像制備薄膜樣品，為觀察樣品內(nèi)部制備截面樣品。通過與sem像比較，sim像能清楚地顯示出歸因于晶體取向不同的電子通道襯度差異，這些都非常適合于評估多層鍍膜的截面及金屬結(jié)構(gòu)。
更新時間:2025-12-22
日本jeol 雙束加工觀察系統(tǒng) jib-4700f，該設備的sem鏡筒中采用了超級混合圓錐形物鏡、gb模式和in-lens檢測器系統(tǒng)，在1kv低加速電壓下,實現(xiàn)了1.6nm的保證分辨率,與最大能獲得300na探針電流的浸沒式肖特基電子槍組合，可以進行高分辨率觀察和高速分析。
更新時間:2025-12-22
日本jeol 能量色散型x射線熒光分析儀 jsx-1000s，采用觸控屏操作、提供更加簡便迅速的元素分析。具備常規(guī)定性、定量分析（fp法・檢量線法）、rohs元素篩選功能等。利用豐富的硬件/軟件選配件、還能進行更廣泛的分析。
更新時間:2025-12-22
德neaspec真空太赫茲波段近場光學顯微鏡hv-thz-neasnom，該套系統(tǒng)成功地繼承了德國neaspec公司thz-neasnom的設計優(yōu)勢，采用專利保護的雙光路設計，完全可以實現(xiàn)真空環(huán)境下太赫茲波段應用的樣品測量。hv-thz-neasnom在實現(xiàn)30nm高空間分辨率的同時，由于采用0.1-3thz波段的時域太赫茲光源（thz-tds），也可以實現(xiàn)近場太赫茲成像和圖譜的同時測量。
更新時間:2025-12-22
jsm-it800shl 是日本電子株式會社（jeol） 2020 年新推出的場發(fā)射掃描電鏡，它秉承 jeol 熱場發(fā)射掃描電鏡 jsm-7900f 的大束流，高穩(wěn)定性的傳統(tǒng)，同時將分辨率提高到新的限，全新設計的超混合型物鏡，高分辨率的獲得以及磁性樣品的觀察都可以同時完成，而且標配 jeol 新開發(fā)的 neo
更新時間:2025-12-22
德國ksi i-wafer型全自動晶圓超聲波缺陷檢測系統(tǒng)，在ksi i-wafer的探測下，晶圓中的孔隙、分層或者雜質(zhì)都能被發(fā)現(xiàn)。尺寸在450mm的多種晶圓也能進行檢測
更新時間:2025-12-22
最新產(chǎn)品
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- 4022 192 91222 2025/12/24 20:08:59
- 4022 192 7179 2025/12/24 20:08:16
- 4022 192 4999.2 2025/12/24 20:07:19
- 4022 192 70361 2025/12/24 20:06:54
- 4022 192 9270 2025/12/24 20:04:38
- 4022 192 91421 2025/12/24 20:04:04
- 4022.192.71241 2025/12/24 20:03:14
- 4022-192-92342 2025/12/24 20:02:32
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- 4022 192 91343 2025/12/24 19:59:03
- 4022 192 7008 2025/12/24 19:58:29
- 4022 192 9264.2 2025/12/24 19:57:48
- 4022 192 7236 2025/12/24 19:55:02
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- 4022 192 9170 2025/12/24 19:53:49
- 4022 192 71761 2025/12/24 19:53:00
- 4022 192 9662 2025/12/24 19:50:11
- 4022 192 72131 2025/12/24 19:49:40