nano-master杰出的濺射系統(tǒng)可構(gòu)建成多腔體和多蒸發(fā)源的配置，在介質(zhì)上濺射金屬和介質(zhì)材料，最大可支持200mm的襯底。系統(tǒng)可以配置dc直流、rf射頻和pulse dc脈沖直流等電源來進行序列濺射或共濺射。 系統(tǒng)使用渦輪分子泵組，工藝腔極限真空可達5 x 10-7torr?？梢酝ㄟ^調(diào)節(jié)靶基距，實現(xiàn)所需要的均勻度和沉積速率的調(diào)節(jié)。旋轉(zhuǎn)樣品臺可提供薄膜最優(yōu)的均勻性。

nte-3000熱蒸發(fā)系統(tǒng)概述：nano-master nte-3000是一款pc計算機控制的臺式熱蒸發(fā)系統(tǒng)，在有機物和金屬沉積方面具有廣泛的應用。設(shè)備的設(shè)計經(jīng)過非常慎重的考慮:在小的占地面積情況下實現(xiàn)干凈、均勻、可控及可重復的工藝過程。它們具有低價格, 高性能以及高能力的特點，可滿足于客戶研發(fā)及小規(guī)模生產(chǎn)的應用要求。 nte-3000熱蒸發(fā)系統(tǒng)可以在設(shè)定的rms電流下，或者在閉環(huán)的配置下操作，并且在這種情況下沉積速度的變化被用于調(diào)節(jié)rms電流以維持恒定的沉積速度。