等離子清洗器產(chǎn)品及廠家

CPC-10等離子清洗機(jī)
等離子清洗能實(shí)現(xiàn)清洗、涂覆、接枝、刻蝕四大功能,改變材料表面性能!該設(shè)備具有較大的腔體尺寸和有效樣品處理面積,使用成本低,性價(jià)比高,處理快速高效,特別適合于大學(xué),科研院所和光電企業(yè)實(shí)驗(yàn)室小批量中試生產(chǎn)。
更新時(shí)間:2025-12-24
CPC-10M等離子清洗機(jī)
等離子清洗機(jī)(plasma cleaning)能實(shí)現(xiàn)清洗、涂覆、接枝、刻蝕四大功能,改變材料表面性能!該設(shè)備具有較大的腔體尺寸和有效樣品處理面積,使用成本低,性價(jià)比高,處理快速高效,特別適合于大學(xué),科研院所和光電企業(yè)實(shí)驗(yàn)室小批量中試生產(chǎn)。
更新時(shí)間:2025-12-24
CPC-G等離子清洗機(jī)
等離子清洗機(jī)(plasma cleaning)能實(shí)現(xiàn)清洗、涂覆、接枝、刻蝕四大功能,改變材料表面性能!該設(shè)備具有較大的腔體尺寸和有效樣品處理面積,使用成本低,性價(jià)比高,處理快速高效,特別適合于大學(xué),科研院所和光電企業(yè)實(shí)驗(yàn)室小批量中試生產(chǎn)。
更新時(shí)間:2025-12-24
CPCP3粉體等離子清洗機(jī)
專為處理粉體如粉末、顆粒狀材料樣品而設(shè)計(jì)的粉體專用等離子清洗機(jī),可以高效率地處理微細(xì)的甚至分子級(jí)別的超細(xì)粉體材料,改變傳統(tǒng)真空等離子清洗機(jī)無(wú)法處理粉體樣品的問題。同時(shí)可實(shí)現(xiàn)常規(guī)等離子清洗。
更新時(shí)間:2025-12-24
手套箱專用等離子清洗機(jī)
vgb系列手套箱專用等離子清洗設(shè)備,優(yōu)化的腔體結(jié)構(gòu)及合理的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)更適合手套箱內(nèi)使用。安裝簡(jiǎn)單方便,性能穩(wěn)定,實(shí)用性強(qiáng),容易維護(hù)。
更新時(shí)間:2025-12-24
中試生產(chǎn)型等離子清洗機(jī)
cpc系列等離子清洗機(jī)是為中試客戶和工業(yè)級(jí)客戶而設(shè)計(jì)的等離子體表面處理設(shè)備。配置豐富,且真空腔體里可分層,適合大多數(shù)生產(chǎn)場(chǎng)景清洗,活化、刻蝕等應(yīng)用。設(shè)備可在嚴(yán)苛環(huán)境下穩(wěn)定運(yùn)行,產(chǎn)品性能穩(wěn)定,樣品處理重復(fù)性、一致性好。
更新時(shí)間:2025-12-24
透射電鏡樣品桿清洗機(jī)
cif透射電鏡(tem)樣品桿清洗機(jī)采用遠(yuǎn)程離子清洗源設(shè)計(jì),清洗快速高效,低轟擊損傷,同時(shí)可實(shí)現(xiàn)常規(guī)等離子清洗。主要用于tem透射電鏡樣品桿的等離子體清洗和真空檢漏。
更新時(shí)間:2025-12-24
掃描電鏡等離子清洗機(jī)
tem透射樣品桿長(zhǎng)期暴露于大氣中,空氣中水汽及污染物會(huì)附著于樣品桿表面,會(huì)導(dǎo)致電鏡抽真空時(shí)間延長(zhǎng),污染電鏡真空腔室、探測(cè)器等,影響電鏡的使用壽命
更新時(shí)間:2025-12-24
全自動(dòng)在線式大氣等離子清洗機(jī)
cap-auto系列全自動(dòng)在線式大氣等離子清洗機(jī)采用單軸模組配合旋噴等離子組件,噴洗高度可調(diào),運(yùn)動(dòng)軌跡可根據(jù)要求設(shè)定,上下料方式采用鏈條或皮帶傳動(dòng)連接前后工序,實(shí)現(xiàn)對(duì)產(chǎn)線產(chǎn)品的等離子清洗處理。
更新時(shí)間:2025-12-24
CPC-Auto在線片式真空等離子清洗機(jī)
cpc-auto在線片式真空等離子清洗機(jī)具有成本較低、容易使用,維護(hù)乃保養(yǎng)費(fèi)用低,環(huán)保等優(yōu)點(diǎn)。適用于芯片粘結(jié)工藝前、引線鍵合和覆晶封裝工藝前的表面處理,與傳統(tǒng)獨(dú)立式的等離子清洗機(jī)相比,在線片式真空等離子清洗機(jī)具有自動(dòng)化程度高、清洗效率高、設(shè)備潔凈度高、適用范圍廣等優(yōu)點(diǎn),適用于大規(guī)模全自動(dòng)化生產(chǎn)。
更新時(shí)間:2025-12-24
等離子去膠機(jī)
等離子去膠機(jī),采用電感耦合各向同性(各個(gè)方向)等離子激發(fā)方式,適用于所有的基材及復(fù)雜的幾何構(gòu)形都可以進(jìn)行等離子體去膠。特別適合于大學(xué),科研院所和微電子、半導(dǎo)體企業(yè)實(shí)驗(yàn)室,對(duì)電路板、外延片、芯片、環(huán)氧基樹脂、mems制造過程中犧牲層,干刻或濕刻處理前或后,對(duì)基材進(jìn)行聚合物剝離、金屬剝離、掩膜材料等光刻膠去除,以及晶圓表面預(yù)處理等。
更新時(shí)間:2025-12-24
等離子清洗機(jī)  2.6L 小型 高性價(jià)比 德國(guó)原裝進(jìn)口 DIENER ZEPTO
等離子可以應(yīng)用于材料接合或精確改變材料表面屬性。通過這項(xiàng)前瞻性技術(shù)可以改變幾乎所有的材料表面。
更新時(shí)間:2025-12-24
等離子清洗機(jī)  10.5L 小型 高性價(jià)比 德國(guó)原裝進(jìn)口 DIENER ATTO
等離子可以應(yīng)用于材料接合或精確改變材料表面屬性。通過這項(xiàng)前瞻性技術(shù)可以改變幾乎所有的材料表面。等離子體技術(shù)可應(yīng)用于不同材料,例如:玻璃、金屬、塑料制品、紡織品和陶瓷制品。
更新時(shí)間:2025-12-24
精密型等離子清洗機(jī)  小型 臺(tái)式 研發(fā)專用 FEMTO 德國(guó)原裝進(jìn)口  DIENER 2.2L
等離子工藝除清洗與活化外,還具有蝕刻與涂層的功能??梢詰?yīng)用于多種領(lǐng)域。
更新時(shí)間:2025-12-24
精密型等離子清洗機(jī)   研發(fā)專用 PICO 德國(guó)原裝進(jìn)口  DIENER 5L-8L
等離子工藝除清洗與活化外,還具有蝕刻與涂層的功能??梢詰?yīng)用于多種領(lǐng)域。
更新時(shí)間:2025-12-24
精密型等離子清洗機(jī)   小型生產(chǎn) NANO 德國(guó)原裝進(jìn)口  DIENER 18L-24L
等離子工藝除清洗與活化外,還具有蝕刻與涂層的功能。可以應(yīng)用于多種領(lǐng)域。
更新時(shí)間:2025-12-24
德國(guó)原裝進(jìn)口 等離子清洗機(jī)  DIENER  TETRA30  30-50L  清洗/活化/蝕刻/涂層
tetra 30等離子系統(tǒng)能夠以不同的形式進(jìn)行整合,可以滿足生產(chǎn)企業(yè)需求,也能夠按照客戶要求進(jìn)行定制。
更新時(shí)間:2025-12-24
常壓等離子清洗機(jī)  德國(guó)原裝進(jìn)口  DIENER  plasmabeam 大氣等離子清洗機(jī)
對(duì)于常壓等離子技術(shù),等離子的生成是由于氣體在大氣壓力下通過高電壓而被激發(fā)。等離子由高壓氣體驅(qū)動(dòng)從噴嘴中一同噴出。其等離子效應(yīng)可以分為以下兩種:?表面激活及精密清洗 通過等離子束中所攜帶的反應(yīng)粒子實(shí)現(xiàn)?此外,松散附著于材料表面的微塵將由高壓加速的激活氣流帶走
更新時(shí)間:2025-12-24
常壓等離子清洗機(jī)  德國(guó)原裝進(jìn)口  DIENER  plasmabeam DUO 大氣等離子清洗機(jī)
對(duì)于常壓等離子技術(shù),等離子的生成是由于氣體在大氣壓力下通過高電壓而被激發(fā)。等離子由高壓氣體驅(qū)動(dòng)從噴嘴中一同噴出。其等離子效應(yīng)可以分為以下兩種:?表面激活及精密清洗 通過等離子束中所攜帶的反應(yīng)粒子實(shí)現(xiàn)?此外,松散附著于材料表面的微塵將由高壓加速的激活氣流帶走
更新時(shí)間:2025-12-24
測(cè)試真空泵
hty-30a型真空泵是設(shè)計(jì)用于微生物檢測(cè)的專用真空泵,它具有外形小巧,操作簡(jiǎn)單,易于清潔維護(hù)等特點(diǎn)。它既可與微生物限度過濾支架配套hty-30a真空泵 jmr-y30a型真空泵是設(shè)計(jì)用于微生物檢測(cè)的專用真空泵,它具有外形小巧,操作簡(jiǎn)單,易于清潔維護(hù)等特點(diǎn)。它既可與微生物限度過濾支架配套,采用負(fù)壓抽濾方式進(jìn)行微生物限度檢查,也可單作為抽氣設(shè)備使
更新時(shí)間:2025-12-24
寬幅線性等離子清洗機(jī)
spk-500s 寬幅等離子清洗機(jī)(plasma cleaner),氣體通過激勵(lì)電源離化成等離子態(tài),等離子體作用于產(chǎn)品表面,清洗產(chǎn)品表面污染物,提高表面活性,增強(qiáng)附著性能。等離子清洗是一種新型的、環(huán)保、高效、穩(wěn)定的表面處理方式。
更新時(shí)間:2025-12-23
德國(guó) PVA TePla等離子清洗系統(tǒng)
德國(guó) pva tepla等離子清洗系統(tǒng)80 plus hs, giga690,10n optimus100,80 plus,有別于傳統(tǒng)的射頻等離子(物理)清洗方式,微波等離子清洗可以清洗到樣品的每一個(gè)部位,實(shí)現(xiàn)清洗過程的自由基不會(huì)被障礙物所阻擋,并且不會(huì)改變表面的粗糙度。
更新時(shí)間:2025-12-22
HK-LTPS100A低溫等離子體滅菌系統(tǒng)/滅菌儀
hk-ltps100a低溫等離子體滅菌系統(tǒng)是新代醫(yī)用滅菌設(shè)備,采用過氧化氫低溫等離子體滅菌技術(shù)??梢詫?duì)不耐濕熱的器械進(jìn)行低溫快速滅菌。特別是對(duì)醫(yī)用電子器械(如骨科電鋸、電鉆、高頻電刀導(dǎo)線、電池等)和非金屬類(如導(dǎo)管、光纖窺鏡、硅橡膠制等)物的滅菌,具有顯著的優(yōu)勢(shì)。在環(huán)保、節(jié)能、低溫、快速、安全方面優(yōu)勢(shì)明顯
更新時(shí)間:2025-12-19
陰離子抑制器082540(新貨號(hào)088666)
名稱:陽(yáng)離子抑制器貨號(hào):082540型號(hào):asrs 300規(guī)格:4mm
更新時(shí)間:2025-12-18
064556陽(yáng)離子抑制器CRS(新貨號(hào)088668)
陽(yáng)離子抑制器 crs
更新時(shí)間:2025-12-18
Dionex082543陽(yáng)離子抑制器
品牌:dionex 貨號(hào):082543 名稱:陽(yáng)離子抑制器
更新時(shí)間:2025-12-18
HK-LTPS100A低溫等離子體滅菌系統(tǒng)/滅菌儀
hk-ltps100a低溫等離子體滅菌系統(tǒng)是新代醫(yī)用滅菌設(shè)備,采用過氧化氫低溫等離子體滅菌技術(shù)。可以對(duì)不耐濕熱的器械進(jìn)行低溫快速滅菌。特別是對(duì)醫(yī)用電子器械(如骨科電鋸、電鉆、高頻電刀導(dǎo)線、電池等)和非金屬類(如導(dǎo)管、光纖窺鏡、硅橡膠制等)物的滅菌,具有顯著的優(yōu)勢(shì)。在環(huán)保、節(jié)能、低溫、快速、安全方面優(yōu)勢(shì)明顯
更新時(shí)間:2025-12-17
NPE-4000 (A) 全自動(dòng)PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
npe-4000(a)全自動(dòng)pecvd等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)概述:nano-master pecvd系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的sio2, si3n4, 或dlc薄膜到最大可達(dá)6” 直徑的基片上.該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來產(chǎn)生等離子,具有分形氣流分布的優(yōu)勢(shì).樣品臺(tái)可以通過rf或脈沖dc產(chǎn)生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的機(jī)械泵,腔體可以達(dá)到低至10-7 torr的真空。標(biāo)準(zhǔn)配置包含1路惰性氣體、3路活性氣體管路和4個(gè)mfc.帶有獨(dú)一無(wú)二氣體分布系統(tǒng)的平面中空陰極等離子源使得系統(tǒng)可以滿足廣大范圍的要求,無(wú)論是等離子強(qiáng)度、均勻度,還是要分別激活某些活性組份,這樣系統(tǒng)可以覆蓋最廣的可能性來獲得各種沉積參數(shù)。
更新時(shí)間:2025-12-17
LSC-5000 (AD) 全自動(dòng)兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng)
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展,對(duì)mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平,可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時(shí)間:2025-12-17
NPC-4000 (M) 等離子清洗機(jī)
npc-4000(m)等離子清洗機(jī)概述:nano-master 等離子刻蝕和清洗系統(tǒng)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用,從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用pc控制,可以配套不同的等離子源,加熱或不加熱基片夾具,具有獨(dú)一無(wú)二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。
更新時(shí)間:2025-12-17
NPC-3500 (A) 全自動(dòng)等離子清洗機(jī)去膠機(jī)
npc-3500(a)全自動(dòng)等離子清洗/去膠機(jī)概述:nano-master 等離子清洗和灰化系統(tǒng)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用,從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用pc控制,可以配套不同的等離子源,加熱或不加熱基片夾具,具有獨(dú)一無(wú)二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。
更新時(shí)間:2025-12-17
SWC-4000 (M) 兆聲掩模板清洗機(jī)
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展,對(duì)mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平,可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時(shí)間:2025-12-17
SWC-3000 (D) 兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng)
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展,對(duì)mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平,可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時(shí)間:2025-12-17
NPC-4000 (A) 全自動(dòng)等離子清洗機(jī)去膠機(jī)
npc-4000(a)全自動(dòng)等離子清洗/去膠機(jī)概述:nano-master 等離子清洗和灰化系統(tǒng)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用,從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用pc控制,可以配套不同的等離子源,加熱或不加熱基片夾具,具有獨(dú)一無(wú)二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。
更新時(shí)間:2025-12-17
NIE-3500 (MC) 離子束清洗系統(tǒng)
nie-3500 (mc)離子束清洗系統(tǒng)產(chǎn)品概述:該系統(tǒng)為計(jì)算機(jī)全自動(dòng)實(shí)現(xiàn)工藝控制的緊湊型獨(dú)立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng),具有結(jié)構(gòu)緊湊、功能強(qiáng)大、自動(dòng)化程度高、模塊化設(shè)計(jì)易于維護(hù)、低成本的優(yōu)勢(shì)。所有核心組件均為國(guó)際知名品牌。
更新時(shí)間:2025-12-17
NPC-3000 等離子清洗機(jī)去膠機(jī)
npc-3000等離子清洗/去膠機(jī)概述:nano-master 等離子灰化和清洗系統(tǒng)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用,從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用pc控制,可以配套不同的等離子源,加熱或不加熱基片夾具,具有獨(dú)一無(wú)二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用
更新時(shí)間:2025-12-17
NIE-3000 (C) 離子束清洗系統(tǒng)
nie-3000 (c) 離子束清洗系統(tǒng)產(chǎn)品概述:該系統(tǒng)為手動(dòng)放片取片,但通過計(jì)算機(jī)全自動(dòng)實(shí)現(xiàn)工藝控制的臺(tái)式離子束刻蝕系統(tǒng),系統(tǒng)具有結(jié)構(gòu)緊湊、功能強(qiáng)大、自動(dòng)化程度高、模塊化設(shè)計(jì)易于維護(hù)、低成本的優(yōu)勢(shì)。該系統(tǒng)所配套的所有核心組件均為國(guó)際知名品牌。
更新時(shí)間:2025-12-17
NIE-3500 (AC) 全自動(dòng)離子束清洗系統(tǒng)
nie-3500 (ac)全自動(dòng)離子束清洗系統(tǒng)產(chǎn)品概述:該系統(tǒng)為全自動(dòng)上下載片,并且通過計(jì)算機(jī)全自動(dòng)實(shí)現(xiàn)工藝控制的緊湊型獨(dú)立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng),系統(tǒng)具有結(jié)構(gòu)緊湊、功能強(qiáng)大、自動(dòng)化程度高、模塊化設(shè)計(jì)易于維護(hù)、低成本的優(yōu)勢(shì)。該系統(tǒng)所配套的所有核心組件均為國(guó)際知名品牌。
更新時(shí)間:2025-12-17
NPE-4000 (M) 等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
npe-4000(m) pecvd等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)概述:nano-master pecvd系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的sio2, si3n4, 或dlc薄膜到最大可達(dá)12” 直徑的基片上.該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來產(chǎn)生等離子,具有分形氣流分布的優(yōu)勢(shì).樣品臺(tái)可以通過rf或脈沖dc產(chǎn)生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的機(jī)械泵,腔體可以達(dá)到低至10-7 torr的真空。標(biāo)準(zhǔn)配置包含1路惰性氣體、3路活性氣體管路和4個(gè)mfc.帶有獨(dú)一無(wú)二氣體分布系統(tǒng)的平面中空陰極等離子源使得系統(tǒng)可以滿足廣大范圍的要求,無(wú)論是等離子強(qiáng)度、均勻度,還是要分別激活某些活性組份,這樣系統(tǒng)可以覆蓋最廣的可能性來獲得各種沉積參數(shù)。
更新時(shí)間:2025-12-17
SWC-4000 (C) 兆聲清洗系統(tǒng)
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展,對(duì)mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平,可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時(shí)間:2025-12-17
SWC-3000 (M) 兆聲掩模板清洗機(jī)
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展,對(duì)mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平,可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時(shí)間:2025-12-17
LSC-4000 (C) 兆聲大基片清洗系統(tǒng)
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展,對(duì)mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平,可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時(shí)間:2025-12-17
NPC-3500 (M) 等離子清洗機(jī)
npc-3500(m)等離子清洗/去膠機(jī)概述:nano-master 等離子清洗和灰化系統(tǒng)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用,從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用pc控制,可以配套不同的等離子源,加熱或不加熱基片夾具,具有獨(dú)一無(wú)二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。
更新時(shí)間:2025-12-17
微波級(jí)等離子清洗機(jī)
plasma-preen 微波級(jí)等離子清洗機(jī)是 一臺(tái)小型臺(tái)式設(shè)備,可以用來清洗和刻蝕。 plasma-preen 等離子清洗機(jī)系統(tǒng)融合了諸多工藝特點(diǎn),并在眾多的應(yīng)用領(lǐng)域中得到了肯定。
更新時(shí)間:2025-12-16
微波級(jí)等離子清洗機(jī)
plasma-preen 微波級(jí)等離子清洗機(jī)是 一臺(tái)小型臺(tái)式設(shè)備,可以用來清洗和刻蝕。 plasma-preen 等離子清洗機(jī)系統(tǒng)融合了諸多工藝特點(diǎn),并在眾多的應(yīng)用領(lǐng)域中得到了肯定。
更新時(shí)間:2025-12-16
遠(yuǎn)程等離子清洗儀
美國(guó)pie公司出品的semi-kleen 等離子清洗儀, 可清洗各種類型電子或者離子顯微鏡,深紫外光刻機(jī),電子光刻系統(tǒng)等真空儀器。一個(gè)儀器同時(shí)清洗真空腔體和樣品。
更新時(shí)間:2025-12-16
SEM掃描電鏡等離子清洗機(jī)
tergeo em型sem及tem樣品/樣品桿清潔專用等離子清潔儀美國(guó)pie scientific專注研發(fā)先進(jìn)的實(shí)驗(yàn)室用等離子儀器,用于sem/tem樣品清潔、光刻膠蝕刻、等離子體增強(qiáng)沉積、表面處理與活化。我們的宗旨是:將半導(dǎo)體和核工程研究中開發(fā)的等離子技術(shù)集成到經(jīng)濟(jì)實(shí)用的實(shí)驗(yàn)室用等離子儀器。專為去除sem & tem樣品的碳?xì)湮廴径O(shè)計(jì)。特有的雙清洗模式(immersion和downstream)能夠處理各種不同的樣品,從嚴(yán)重污染的電子光學(xué)孔徑光闌到各種脆弱易損樣品,如石墨烯、碳納米管、類金剛石碳膜以及多孔碳支持膜銅網(wǎng)上的tem樣品。石英樣品托板上的孔洞可以安裝標(biāo)準(zhǔn)sem樣品托。特別設(shè)計(jì)的適配器可以清潔不同廠家的tem樣品桿。
更新時(shí)間:2025-12-16
TEM透射電鏡等離子清洗機(jī)
tergeo em型sem及tem樣品/樣品桿清潔專用等離子清潔儀美國(guó)pie scientific專注研發(fā)先進(jìn)的實(shí)驗(yàn)室用等離子儀器,用于sem/tem樣品清潔、光刻膠蝕刻、等離子體增強(qiáng)沉積、表面處理與活化。我們的宗旨是:將半導(dǎo)體和核工程研究中開發(fā)的等離子技術(shù)集成到經(jīng)濟(jì)實(shí)用的實(shí)驗(yàn)室用等離子儀器。專為去除sem & tem樣品的碳?xì)湮廴径O(shè)計(jì)。特有的雙清洗模式(immersion和downstream)能夠處理各種不同的樣品,從嚴(yán)重污染的電子光學(xué)孔徑光闌到各種脆弱易損樣品,如石墨烯、碳納米管、類金剛石碳膜以及多孔碳支持膜銅網(wǎng)上的tem樣品。石英樣品托板上的孔洞可以安裝標(biāo)準(zhǔn)sem樣品托。特別設(shè)計(jì)的適配器可以清潔不同廠家的tem樣品桿
更新時(shí)間:2025-12-16
EM-KLEEN遠(yuǎn)程等離子清潔儀
美國(guó)pie出品的em-kleen型遠(yuǎn)程等離子清潔儀,廣泛用于sem掃描電鏡,fib聚焦離子束雙束電鏡,tem透射電鏡,xps_x射線光電子能譜分析儀,ald原子層沉積系統(tǒng),cd-sem, ebr, ebi, euvl和其它高真空系統(tǒng),可同時(shí)清潔真空腔室和樣品!
更新時(shí)間:2025-12-16
Tucano大氣常壓等離子清洗系統(tǒng)
tucano是一種臺(tái)式等離子系統(tǒng),專為表面清潔,改性和活化而設(shè)計(jì)。系統(tǒng)特別設(shè)計(jì)用于等離子體表面處理包括光刻膠灰化, 有機(jī)物去除, 清洗, 活化, 改性, 沉積和刻蝕, 具有功能多, 易操作性強(qiáng), 全自動(dòng)化無(wú)需調(diào)試, 可靠性高, 低成本等優(yōu)點(diǎn), 廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造, 微電子加工, 生命科學(xué)制造和前處理等。
更新時(shí)間:2025-12-16

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