光學平臺產品及廠家
ergolab組合式智能可穿戴生理測量平臺一、平臺概述ergolab組合式智能可穿戴生理測量平臺是北京津發(fā)科技股份有限公司自主研發(fā)的可穿戴便攜式生理信號記錄工具，適用于多種實驗環(huán)境。平臺采用多傳感器融合技術及算法，單個傳感器能夠采集多通道生
更新時間:2025-12-24
tvshow數據展示平臺是一款可與多種監(jiān)測設備相連接的展示平臺，可以將監(jiān)測設備采集到的多種數據并列在同一界面，讓人們一目了然。此外，tvshow數據展示平臺分為windows版和安卓版兩種平臺，可與不同的顯示設備連接，不斷地進行數據刷新，讓人們及時掌握到當整體的數據詳情。
更新時間:2025-12-24
在標準規(guī)范體系、安全防護體系的框架內和系統支撐平臺上建立整個智能市政綜合監(jiān)管平臺，通過數據集中統一管理，在視頻監(jiān)控共享、指揮調度通訊、空間定位服務、應用集成服務運行平臺基礎上建設智慧城管應用系統，各種終端用戶登錄到各個應用系統。
更新時間:2025-12-24
文化市場綜合和監(jiān)管平臺安全性高，圖像掩碼技術，防止非法篡改錄像資料；只有授權用戶才可以進行錄像備份，有效防止惡意破壞；強大日志管理功能，保證了系統的安全使用。服務器端和客戶端之間所傳輸的數據，全部經過加密
更新時間:2025-12-24
1. 系統方案ansys高精度自動駕駛仿真驗證平臺提供了基于物理的三維場景建模、基于語義的道路事件建模、基于物理光學屬性的攝像頭和激光雷達的仿真、基于物理電磁學屬性的毫米波雷達的仿真，從而實現多傳感器
更新時間:2025-12-24
交互虛擬現實開發(fā)平臺vizard虛擬現實軟件工具包括建立互動的3d內容所需要的一切遵循快速原型設計原則，vizard使您快速創(chuàng)建內容并提供豐富資源庫，甚至zui具有挑戰(zhàn)性的應用案例。使用vizard，甚至沒有編程經驗的人也可以輕松建立互動的3d內容：快速呈現互動3d刺激：有豐富的資源庫，無論有無編程經驗，都可以快速地呈現刺激;
更新時間:2025-12-24
津發(fā)公司自豪地給大家介紹ergolab人機環(huán)境同步平臺。人機環(huán)境同步平臺是由津發(fā)公司安全獨立自主開發(fā)的系統，是一個專業(yè)用于收集、分析和演示人因工程、安全人機工程研究中人機環(huán)境數據采集且操作簡便的多元數據同步分析平臺。該系統與許多人因工程學、
更新時間:2025-12-24
psylab心理測試云平臺一、系統簡介psylab心理測試云平臺是北京津發(fā)科技股份有限公司基于“人-機-環(huán)境”和“人-信息-物理”系統理論，自主創(chuàng)新與配置的主觀量化評價與測試系統。系統可用于對被試進行主觀施測，包括問卷、量表以及行為實驗范式
更新時間:2025-12-24
ergolab interaction交互行為分析平臺一、產品簡介ergolab interaction交互行為分析平臺，是津發(fā)科技依據“人因工程與工效學”和“人-信息-物理系統”理論自主研發(fā)的、面向產品及原型的多模態(tài)主客觀交互行為測評與分
更新時間:2025-12-24
psylab智能人因測試云平臺一、系統簡介psylab智能人因測試云平臺是北京津發(fā)科技股份有限公司基于“人-機-環(huán)境”和“人-信息-物理”系統理論，自主創(chuàng)新與配置的主觀量化評價與測試系統。系統可用于對被試進行主觀施測，包括問卷、量表以及行為
更新時間:2025-12-24
ergolab虛擬仿真教學實驗平臺一、平臺簡介ergolab虛擬仿真教學實驗平臺由ergolab人因測試子平臺、ergolab人因數據分析子平臺、ergolab人因心理試驗臺等部分組成。平臺融合了認知與心理測試、生理測量等人因研究技術，能夠
更新時間:2025-12-24
psylab人因測試與評估云平臺一、系統簡介psylab人因測試與評估云平臺是北京津發(fā)科技股份有限公司基于“人-機-環(huán)境”和“人-信息-物理”系統理論，自主創(chuàng)新與配置的主觀量化評價與測試系統。系統可用于對被試進行主觀施測，包括問卷、量表以及
更新時間:2025-12-24
psylab心理評估云平臺系統一、系統簡介psylab心理評估云平臺系統是北京津發(fā)科技股份有限公司基于“人-機-環(huán)境”和“人-信息-物理”系統理論，自主創(chuàng)新與配置的主觀量化評價與測試系統。系統可用于對被試進行主觀施測，包括問卷、量表以及行為
更新時間:2025-12-24
ure-2000 系列紫外單面光刻機此系列包含六種型號：ure-2000a,ure-2000b,ure-2000/35,ure-2000/35a,ure-2000/25,ure-2000/17
更新時間:2025-12-22
英國hhv auto500 gb 適合手套箱集成的真空鍍膜系統，是門設計用于手套箱集成使用的鍍膜設備，滿足氧氣或水汽敏感的材料鍍膜的應用要求。該系統配了一個特殊結構的真空腔室，可直接與市場上大多數手套箱集成到一起。真空腔室的門可豎直滑動開關，嵌入手套箱內，并占用很少的手套箱空間；其后門是鉸鏈扇式開關，能在不影響手套箱內氣氛的情況下輕松維護腔室內工藝組件。
更新時間:2025-12-22
奧地利smartnil紫外納米壓?。篹vg7200，leds 制作，led pss納米壓印工藝，led納米透鏡陣列；微流體學；芯片實驗室；抗反射層； 納米壓印光柵； 蓮花效應；光子帶隙；光學及通訊：光晶體，激光器件；生物技術解決方案：醫(yī)藥分析，血液分析，細胞生長。
更新時間:2025-12-22
evg610是一款非常靈活的適用于研發(fā)和小批量試產的對準系統，可處理大200mm之內的各種規(guī)格的晶片。evg610支持各種標準的光刻工藝，例如：真空、軟、硬接觸和接近曝光；也支持其他特殊的應用，如鍵合對準、納米壓印光刻、微接觸印刷等。系統中的工具更換非常簡便快捷，每次更換都可在一分鐘之內完成，而不需要門的工程人員和培訓，非常適合大學、研究所的科研實驗和小批量生產。
更新時間:2025-12-22
奧地利evg鍵合機：evg510，是一款半自動晶圓鍵合系統，可以處理大200mm的晶圓，非常適合于研發(fā)和小批量生產。evg510提供了除上料和下料外的全自動工藝處理過程，并配備了業(yè)界公認的優(yōu)異的加熱和壓力均勻性系統。evg510模塊化的鍵合腔室設計可用于150mm或200mm晶圓鍵合，并且其工藝菜單與evg其他更高系列的鍵合機相匹配，可以方便的實現從實驗線到量產線的工藝復制。
更新時間:2025-12-22
evg520is是一款設計用于小批量生產的半自動晶圓鍵合系統， 大硅片允許尺寸為200mm。集evg新技術及客戶反饋基礎上設計的evg520is，配備了evg公司的利吸盤設計---這種吸盤可以提供對稱的快速加熱和冷卻功能。evg520is的很多優(yōu)勢特性，如獨立的上下盤加熱和高壓鍵合工藝、高度的材料和工藝靈活性等，都幫助客戶很好的實施鍵合研究和生產。
更新時間:2025-12-22
英國nanobean nb5 電子束光刻機,具有良好的穩(wěn)定性，平均正常運行時間超過93%.
更新時間:2025-12-22
瑞典 mycronic 掩膜版光刻機 fps6100，用于制作高精度掩膜版，廣泛用于半導體，tft-lcd，微電子等行業(yè)。
更新時間:2025-12-22
系統中集成了高精度的激光干涉工作臺，運動行程為50 x 50 x 25mm，xy方向定位精度為2nm，可以實現精確的拼接套刻，拼接套刻精度≤50nm。
更新時間:2025-12-22
ebpg5150使用了155mm大小的樣品臺，采用跟ebpg5200一樣的通用光刻平臺設計，對電子束直寫應用進行了優(yōu)化。它可以載入不同大小的樣品,包括多片散片以及完整的硅片。
更新時間:2025-12-22
德國raith voyager 新一代超高分辨率電子束光刻機,系統可實現8英寸樣品的高速曝光。系統的穩(wěn)定性是非常關鍵的指標，可保證大面積均勻曝光。該系統外部采用環(huán)境屏蔽罩，即使在稍差的實驗室環(huán)境下，仍然能確保系統具有非常好的熱穩(wěn)定性，提高系統對外界環(huán)境的容忍度。
更新時間:2025-12-22
entech rie si591 平板電容式反應離子刻蝕機，兼容多種氯基或氟基刻蝕工藝；小型化和高度模塊化；sentech控制軟件
更新時間:2025-12-22
sentech si 500 電感耦合等離子體icp干法刻蝕系統，感應耦合等離子刻蝕機臺，低損傷納米結構刻蝕，高速率刻蝕，內置icp等離子源，動態(tài)溫控。
更新時間:2025-12-22
evg620 單面/雙面光刻機(帶有壓印功能），evg620 是一款非常靈活和可靠的光刻設備，可配置為半自動也可以為全自動形式。evg620 既可以用作雙面光刻機也可以用作 150mm 硅片的精確對準設備；既可以用作研發(fā)設備，也可以用作量產設備。精密的契型補償
更新時間:2025-12-22
美國neocera 脈沖激光沉積系統pioneer 180-2-pld,一種用途廣泛的、用于薄膜沉積以及納米結構和納米粒子合成的方法
更新時間:2025-12-22
2英寸氮化鎵自支撐晶片, 10×10.5mm²氮化鎵自支撐晶片, 非性/半性氮化鎵自支撐晶片, 4英寸氮化鎵厚膜晶片, 2英寸氮化鋁厚膜晶片, 2英寸氮化鎵厚膜晶片
更新時間:2025-12-22
法國annealsys 高溫退火爐as-one, 多用途快速熱處理設備，適用于硅，化合物半導體，太陽能電池& mems.
更新時間:2025-12-22
日本rion液體光學顆粒度儀ks-19f,寬廣的測試范圍，可測試 0.03~0.13um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準的顆粒數據。octoplus 400 是一款通用型mbe系統，非常適合于iii/v族， ii/vi族，及其他復合半導體材料應用。兼容2-4英寸標準晶片。豎直分割式腔體設計，可以裝配各種源爐，實現不同材料分子束外延生長。
更新時間:2025-12-22
raith 150 two可實現亞5nm的曝光結構，可處理8”晶元及以下樣片。環(huán)境屏蔽罩保證了系統的熱穩(wěn)定性，提高設備對實驗室環(huán)境的容忍度，即使在相對糟糕的實驗室環(huán)境下，也能保證系統的正常穩(wěn)定運行。
更新時間:2025-12-22
raith 150 two可實現亞5nm的曝光結構，可處理8”晶元及以下樣片。環(huán)境屏蔽罩保證了系統的熱穩(wěn)定性，提高設備對實驗室環(huán)境的容忍度，即使在相對糟糕的實驗室環(huán)境下，也能保證系統的正常穩(wěn)定運行。
更新時間:2025-12-22
phabler 100 紫外光刻機是一套低成本的光學曝光系統，但卻能獲得高分辨率的周期性結構。同傳統的紫外曝光機類似，涂覆了光刻膠的晶片以接近方式放置在掩膜版下面，被紫外光束照射。由于eulitha公司擁有突破性的phable 曝光技術，在"phable"模式下，分辨率不再受到衍射的限制，從而曝光出亞微米的線性光柵和二維光柵（六角形和正方形），且曝光結果非常均勻，質量很好。
更新時間:2025-12-22
oai 5000e型大面積掩光刻機是一種先進的高性能，全自動掩模對準器和曝光工具，可為大型平板應用提供超精密，頂，亞微米對準和分辨率。 其靈活的設計允許在各種基材（圓形或方形）上印刷高達300mm或20“×20”。 曝光系統兼容近，中，或深紫外范圍的光刻膠，并具有計算機控制的led顯微鏡照明，在不太理想的觀察環(huán)境中觀察。
更新時間:2025-12-22
兩種型號的2000型曝光系統包括uv光源，強度控制電源和機器人襯底處理子系統。 uv光源提供發(fā)散半角<2.0％的可調強度光束。電源從200w到2,000w。強度控制器傳感器直接連接到光源，用于精確的強度監(jiān)控。機器人襯底處理系統是微處理器控制的，并且可以被編程以適應各種各樣的襯底尺寸。
更新時間:2025-12-22
2012sm型自動邊緣曝光系統為使用標準陰影掩模技術的邊緣珠去除提供了一種經濟高效的方法。 設計用于容納8“到300mm的晶片，該工具具有自動foup裝載。 掩模和基材切換可以快速且容易地實現，從而增加該生產工具的通用性和高產量。
更新時間:2025-12-22
2012sm型自動邊緣曝光系統為使用標準陰影掩模技術的邊緣珠去除提供了一種經濟高效的方法。 設計用于容納8“到300mm的晶片，該工具具有自動foup裝載。 掩模和基材切換可以快速且容易地實現，從而增加該生產工具的通用性和高產量。
更新時間:2025-12-22
oai 200型光刻機是一種具有成本效益的高性能掩模對準器，采用經過行業(yè)驗證的組件，使oai成為光刻設備行業(yè)的導者。 200型是臺式面罩對準器，需要小的潔凈室空間。它為研發(fā)，或有限規(guī)模，試點生產提供了經濟的替代方案。利用創(chuàng)新的空氣軸承/真空吸盤調平系統，襯底快速平穩(wěn)地平整，用于平行光掩模對準和在接觸曝光期間在晶片上的均勻接觸。該系統能夠實現一微米分辨率和對準精度。
更新時間:2025-12-22
30型uv光源是高效的，可用于各種應用。光由橢圓形反射器收集并聚焦在積分/聚光透鏡陣列上，以在曝光平面產生均勻的照明。這種紫外光源提供多種光束尺寸，最大24英寸平方，輸出光譜范圍從220 nm到450 nm，使用適當的燈（包括）。輸出功率范圍從200瓦到5千瓦。所有oai uv光源都易于配備快速更換過濾器組件，使用戶能夠輕松定制輸出光譜。可選配遠程排氣風扇。
更新時間:2025-12-22
the oai solar energy meter measures solar simulator irradiance in "sun" units, for example, with one sun equaling 1000 w/m2 at 25 °c at airmass 1.5 global conditions.
更新時間:2025-12-22
nanoarch p130是科研3d打印系統，擁有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印層厚，從而實現超高精度的樣件制作，非常適合高校和研究機構用于科學研究及應用創(chuàng)新。
更新時間:2025-12-22
jbx-8100fs 圓形電子束光刻系統· 最新高精密jbx-8100fs圓形電子束光刻系統，通過全方位的設計優(yōu)化，實現更簡便的操作，更快的刻寫速度，更小的占地面積和安裝空間，并且更加綠色節(jié)能。
更新時間:2025-12-22
最新產品
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- 4022 192 70372 2025/12/25 20:06:14
- 4022 192 72141 2025/12/25 20:05:40
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